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난수 발생기 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015141524
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 난수 발생기 및 이의 제조방법을 제공한다. 난수 발생기는 자유층과 핀드층 중 적어도 하나에 멀티 마그네틱 도메인(multi magnetic domain)을 가져, 주입되는 전류에 따라 자유층 내의 스핀을 다양하게 자화 스위칭시킴으로써, 발생되는 난수의 무작위성을 증가시킬 수 있다. 칩 상에 제조가 가능하므로, 고집적이 용이하며, 대용량의 연산 처리 시스템이나 암호 해독 시스템 등 다양한 장치에 적용할 수 있다. 또한, 난수 발생기의 제조방법은 자화 어닐링을 수행하지 않거나, 하드 마스크를 식각 마스크로 이용하여 기판을 식각함으로써 적어도 하나의 자기터널접합 구조물을 형성하되, 식각으로 자기터널접합 구조물의 측벽에 비균등한 결정구조를 발생시켜, 핀드층 및 자유층 중 적어도 하나에 멀티 마그네틱 도메인을 형성함으로써 간단하고 용이하게 자성층 내에 멀티 마그네틱 도메인을 형성할 수 있다.
Int. CL H01L 43/02 (2006.01) G06F 7/58 (2006.01)
CPC H01L 43/02(2013.01) H01L 43/02(2013.01)
출원번호/일자 1020120070847 (2012.06.29)
출원인 한양대학교 산학협력단, 리켄
등록번호/일자 10-1348503-0000 (2013.12.30)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140107) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.06.29)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
2 리켄 일본 일본국 사이타마현 와코시 히로사와

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이승백 대한민국 경기 용인시 기흥구
2 천성우 대한민국 경기 김포시 걸포로 *, *
3 김성주 대한민국 서울 중구
4 마사히코하라 일본 일본, 사이타마 -*, 와코

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2012-0522001-52
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2012.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0541520-26
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2012-0553815-15
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.06.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.07.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0053122-98
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0523734-59
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.09.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0882636-12
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0882630-38
9 등록결정서
Decision to grant
2013.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0898411-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
스핀 자화 방향이 고정되는 핀드층;스핀 자화 방향이 스위칭되는 자유층; 상기 핀드층과 자유층 사이에 개재되는 터널 배리어층; 상기 핀드층과 상기 자유층 중 어느 일면에 배치되는 제1 전극; 및상기 핀드층과 상기 자유층 중 다른 일면에 배치되는 제2 전극을 포함하고,상기 자유층과 핀드층 중 적어도 어느 하나는 스핀의 자화 방향이 서로 다른 복수 개의 도메인을 구비하는 멀티 마그네틱 도메인(multi magnetic domain)을 가지는 난수 발생기
2 2
제1항에 있어서,상기 자유층의 자화 방향은 스핀 주입 전류에 의해 결정되는 난수 발생기
3 3
제1항에 있어서,상기 제1 전극과 핀드층 사이에 배치되는 씨드층을 더 포함하는 난수 발생기
4 4
제1항에 있어서,상기 자유층과 상기 제2 전극 사이에 배치되는 캡핑층을 더 포함하는 난수 발생기
5 5
제1 전극이 형성된 기판 상에 핀드층, 터널 배리어층 및 자유층을 순차 적층하여 자기터널접합층을 형성하는 단계; 및상기 자기터널접합층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 자유층과 핀드층 중 적어도 어느 하나는 스핀의 자화 방향이 서로 다른 복수 개의 도메인을 구비하는 멀티 마그네틱 도메인(multi magnetic domain)을 가지는 난수 발생기의 제조방법
6 6
제5항에 있어서,상기 멀티 마그네틱 도메인은,상기 자기터널접합층을 형성하는 단계와, 상기 제2 전극을 형성하는 단계 사이에 형성되며,상기 자기터널접합층 상에 하드 마스크를 형성하는 단계; 및상기 하드 마스크를 이용하여 상기 기판을 식각함으로써 적어도 하나의 자기터널접합 구조물을 형성하되, 상기 식각으로 상기 자기터널접합 구조물의 측벽에 비균등한 결정구조를 발생시켜, 상기 핀드층 및 상기 자유층 중 적어도 어느 하나에 멀티 마그네틱 도메인을 형성하는 단계를 거쳐 형성되는 난수 발생기의 제조방법
7 7
제6항에 있어서,상기 멀티 마그네틱 도메인을 형성하는 단계와, 상기 제2 전극을 형성하는 단계 사이에, 상기 자기터널접합 구조물을 덮도록 패시베이션층을 형성하는 단계; 및상기 패시베이션층을 평탄화하여 상기 자기터널접합 구조물을 노출시키는 단계를 더 포함하는 난수 발생기의 제조방법
8 8
제6항에 있어서,상기 자기터널접합층을 형성하는 단계와, 상기 하드 마스크를 형성하는 단계 사이에,상기 자기터널접합층이 형성된 기판을 자화 어닐링하는 단계를 더 포함하는 난수 발생기의 제조방법
9 9
제8항에 있어서,상기 자화 어닐링은 상기 터널 배리어층이 결정화되는 온도, 및 상기 핀드층과 상기 자유층의 큐리 온도 이하에서 수행되는 난수 발생기의 제조방법
10 10
제5항에 있어서,상기 자기터널접합층을 형성하는 단계와, 상기 제2 전극을 형성하는 단계 사이에,상기 자기터널접합층이 형성된 기판의 자화 어닐링은 수행되지 않는 난수 발생기의 제조방법
11 11
제6항에 있어서,상기 자기터널접합층 상에 하드 마스크를 형성하는 단계는 전자빔 리소그래피를 이용하여 수행되는 난수 발생기의 제조방법
12 12
제6항에 있어서,상기 식각은 건식 식각인 난수 발생기의 제조방법
13 13
제12항에 있어서,상기 건식 식각은 이온빔 식각인 난수 발생기의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한양대학교 산학협력단 국제협력사업(글로벌R) 한양대 - RIKEN 공동연구센터 지원