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원통형 투과 채널을 구비한 분리막 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015142027
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 원통형 투과 채널을 구비하는 분리막 및 이의 제조방법이 개시된다. 본 발명에 의한 분리막은 복수개의 기공이 형성된 지지 기판, 상기 지지 기판 상에 형성되는 투과층을 포함하고, 상기 투과층은 상기 투과층을 관통하는 균일한 크기의 복수개의 원통형 투과 채널을 포함함으로써 분리막 내의 유체 저항을 감소시켜 투과도 및 분리 효율이 증대된다. 또한, 본 발명에 의한 원통형 투과 채널을 구비하는 분리막의 제조방법은 희생 기판, 희생층 및 투과층이 순차로 적층된 구조체를 제공하는 단계, 상기 투과층 상에 레지스트막을 형성하는 단계, 상기 레지스트막을 노광 및 현상하여 상기 투과층 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계, 상기 투과층을 식각하여 원통형 투과 채널을 형성하는 단계, 상기 희생층을 제거하여 상기 투과층을 분리하는 단계 및 상기 분리된 투과층을 지지 기판에 전사하여 분리막을 형성하는 단계를 포함함으로써 리소그래피 공정 및 식각 공정을 포함하는 반도체 공정을 활용하여 용이하게 균일한 크기의 원통형 투과 채널을 구비하는 분리막을 제조할 수 있으며, 정확하게 투과 채널의 직경 크기를 제어할 수 있다.
Int. CL B01D 39/00 (2006.01) B01D 71/02 (2006.01) B01D 69/02 (2006.01) B01D 69/10 (2006.01)
CPC B01D 71/02(2013.01) B01D 71/02(2013.01) B01D 71/02(2013.01) B01D 71/02(2013.01) B01D 71/02(2013.01)
출원번호/일자 1020120002890 (2012.01.10)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1444991-0000 (2014.09.19)
공개번호/일자 10-2013-0081841 (2013.07.18) 문서열기
공고번호/일자 (20141002) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.01.07)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 백운규 대한민국 서울 강남구
2 박호범 대한민국 서울 성동구
3 송태섭 대한민국 서울 성동구
4 신혜진 대한민국 서울 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-0023874-67
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2013.01.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0015225-58
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.08.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0084675-39
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.02.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0096140-89
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2014-0335283-47
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.05.09 수리 (Accepted) 1-1-2014-0439473-21
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.05.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0439488-16
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
10 등록결정서
Decision to grant		 2014.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0636134-26
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
복수개의 기공이 형성된 지지 기판;상기 지지 기판 상에 형성되는 투과층을 포함하고,상기 투과층은 상기 투과층을 관통하는 복수개의 원통형 투과 채널을 포함하고,상기 복수개의 원통형 투과 채널의 전면을 덮도록 코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 분리막
2 2
제1항에 있어서,상기 투과층은 실리콘 또는 실리콘 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막
3 3
제1항에 있어서,상기 각 원통형 투과 채널의 직경은 30nm 내지 100nm의 범위 내에서 선택되며, 균일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 분리막
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서,상기 코팅층은 실리콘 질화물, 실리콘 산화물 및 탄소 동소체 중에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막
6 6
희생 기판, 희생층 및 투과층이 순차로 적층된 구조체를 제공하는 단계;상기 투과층 상에 레지스트막을 형성하는 단계;상기 레지스트막을 노광 및 현상하여 상기 투과층 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계;상기 투과층을 식각하여 원통형 투과 채널을 형성하는 단계;상기 희생층을 제거하여 상기 투과층을 분리하는 단계; 및 상기 분리된 투과층을 지지 기판에 전사하여 분리막을 형성하는 단계를 포함하는 분리막의 제조방법
7 7
제6항에 있어서,상기 희생 기판은 실리콘인 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
8 8
제6항에 있어서,상기 희생층은 실리콘 질화물 또는 실리콘 산화물인 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
9 9
제6항에 있어서,상기 투과층은 실리콘 또는 실리콘 산화물인 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
10 10
제6항에 있어서,상기 투과층을 식각하여 원통형 투과 채널을 형성하는 단계와, 상기 희생층을 제거하여 상기 투과층을 분리하는 단계 사이에 상기 원통형 투과 채널 전면을 덮도록 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
11 11
제10항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계는 원자층 증착법, 화학 기상 증착법 및 물리 기상 증착법 중에서 선택되는 어느 하나로 수행되는 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
12 12
제10항에 있어서,상기 코팅층은 실리콘 질화물, 실리콘 산화물 및 탄소 동소체 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.