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투과도가 향상된 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체 및 이의 제조방법

기술번호 : KST2015142278
담당센터 : 서울서부기술혁신센터
전화번호 : 02-6124-6930

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 투과성이 향상된 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체는 종래의 다공성 고분자 지지체에 비해 표면 기공도가 증가하여 투과도를 향상시켰다. 즉, 표면 기공도가 떨어져 산화그래핀 코팅층을 통한 투과도 및 선택도 향상의 효과를 반감시키는 종래 다공성 고분자 지지체의 문제점을 해결하였다. 또한 산화그래핀과 다공성 고분자 지지체 간의 인력을 증가시켜 산화그래핀 코팅층이 다공성 고분자 지지체로부터 쉽게 박리되지 않게 하면서, 균일한 표면을 형성하게 된다.
Int. CL	B01D 69/10 (2006.01.01) B01D 69/12 (2006.01.01) B01D 67/00 (2006.01.01) B01D 53/22 (2006.01.01) C02F 1/44 (2006.01.01)
CPC	B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01)
출원번호/일자	1020140033511 (2014.03.21)
출원인	한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자	10-2015-0109931 (2015.10.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	거절
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2019.03.15)
심사청구항수	19

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한양대학교 산학협력단	대한민국	서울특별시 성동구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	박호범	대한민국	서울특별시 성동구
2	조영훈	대한민국	서울 성동구
3	김효원	대한민국	서울특별시 광진구
4	유병민	대한민국	경기도 성남시 중원구
5	황윤성	대한민국	서울특별시 서초구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	특허법인충현	대한민국	서울특별시 서초구 동산로 *, 층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
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번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2014.03.21	수리 (Accepted)	1-1-2014-0274465-96
2	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.06.05	수리 (Accepted)	4-1-2014-5068294-39
3	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.02.16	수리 (Accepted)	4-1-2015-5022074-70
4	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)	2019.03.15	수리 (Accepted)	1-1-2019-0270531-02
5	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.05	수리 (Accepted)	4-1-2019-5155816-75
6	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.06	수리 (Accepted)	4-1-2019-5156285-09
7	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2020.03.30	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2020-0225483-13
8	[지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서	2020.06.01	수리 (Accepted)	1-1-2020-0553359-73
9	거절결정서 Decision to Refuse a Patent	2020.07.16	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2020-0484155-16

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 친수성의 아민계 화합물을 포함하며, 표면 기공도가 5-20 %인 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체
2	2 제 1항에 있어서,상기 친수성의 아민계 화합물을 제외한 상기 다공성 고분자 지지체는 폴리술폰(PSF, Polysulfone), 폴리에테르술폰(PES, Polyether sulfone), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF, Polyvinylidene fluoride) 및 폴리아크릴로니트릴(PAN, Polyacrylonitrile)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체
3	3 제 1항에 있어서,상기 친수성의 아민계 화합물은 폴리비닐피롤리돈(PVP, polyvinylpyrrolidone) 또는 폴리에틸렌이민(PEI, polyethylenimine)인 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체
4	4 제 1항에 있어서,상기 친수성의 아민계 화합물은 상기 다공성 고분자 지지체 내에서 0
5	5 제 1항에 있어서,상기 다공성 고분자 지지체에 메탄올, 에탄올 및 이소프로필 알코올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체
6	6 1) 다공성 고분자 지지체인 화합물과 친수성 아민계 화합물을 용매에 혼합하여 혼합액을 제조하는 단계; 및2) 상기 혼합액을 경화시키는 단계;를 포함하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체의 제조방법
7	7 제 6항에 있어서,상기 다공성 고분자 지지체는 폴리술폰(PSF, Polysulfone), 폴리에테르술폰(PES, Polyether sulfone), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF, Polyvinylidene fluoride) 및 폴리아크릴로니트릴(PAN, Polyacrylonitrile)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체의 제조방법
8	8 제 6항에 있어서,상기 친수성의 아민계 화합물은 폴리비닐피롤리돈(PVP, polyvinylpyrrolidone) 또는 폴리에틸렌이민(PEI, polyethylenimine)인 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체의 제조방법
9	9 제 6항에 있어서,상기 1)단계에 따른 혼합액에서 다공성 고분자 지지체인 화합물은 5-25 중량%로 혼합되는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체의 제조방법
10	10 제 6항에 있어서,상기 1)단계에 따른 혼합액에서 친수성의 아민계 화합물은 0
11	11 제 6항에 있어서,상기 1)단계에 따른 혼합액에 메탄올, 에탄올 및 이소프로필 알코올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체의 제조방법
12	12 제 11항에 있어서,상기 메탄올, 에탄올 및 이소프로필 알코올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상은 상기 혼합액 내에서 0
13	13 제 6항에 있어서,상기 2)단계 이후에 플라즈마를 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체의 제조방법
14	14 제 6항에 있어서,상기 제조방법에 의해 제조된 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체의 표면 기공도는 5-20 %인 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체의 제조방법
15	15 제 1항에 따른 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체 또는 제 6항에 따른 제조방법에 의해 제조된 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막용 다공성 고분자 지지체를 포함하는 복합막
16	16 제 15항에 따른 복합막을 포함하는 기체 분리막
17	17 제 16항에 있어서,상기 기체 분리막의 기체 투과도는 50-300 GPU인 것을 특징으로 하는 기체 분리막
18	18 제 15항에 따른 복합막을 포함하는 수처리 분리막
19	19 제 18항에 있어서,상기 수처리 분리막의 수투과율은 2-20 LMH/bar 인 것을 특징으로 하는 수처리 분리막

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	CN106102884	CN	중국	FAMILY
2	KR1020150106632	KR	대한민국	FAMILY
3	KR1020150108631	KR	대한민국	FAMILY
4	US10668694	US	미국	FAMILY
5	US20180170002	US	미국	FAMILY
6	WO2015137678	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	CN106102884	CN	중국	DOCDBFAMILY

순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번	연구부처	주관기관	연구사업	연구과제
1	미래창조과학부	한양대학교 산학협력단	거대과학연구개발사업(기후변화대응 기초원천사업)	고투과선택성 CO₂분리막소재를 위한 기공·채널 엔지니어링 기술개발

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2014.03.21	수리 (Accepted)	1-1-2014-0274465-96
2	출원인정보변경(경정)신고서	2014.06.05	수리 (Accepted)	4-1-2014-5068294-39
3	출원인정보변경(경정)신고서	2015.02.16	수리 (Accepted)	4-1-2015-5022074-70
4	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서	2019.03.15	수리 (Accepted)	1-1-2019-0270531-02
5	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.05	수리 (Accepted)	4-1-2019-5155816-75
6	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.06	수리 (Accepted)	4-1-2019-5156285-09
7	의견제출통지서	2020.03.30	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2020-0225483-13
8	[지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서	2020.06.01	수리 (Accepted)	1-1-2020-0553359-73
9	거절결정서	2020.07.16	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2020-0484155-16

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