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표면이 질소로 코팅되었으며, 접촉각은 10~50 °이고, 표면 거칠기는 0
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제 1항에 있어서,상기 지지체는 다공성 고분자 지지체인 것을 특징으로 하는 복합 분리막용 지지체
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제 2항에 있어서,상기 다공성 고분자 지지체는 폴리술폰(PSF, Polysulfone), 폴리에테르술폰(PES, Polyether sulfone), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF, Polyvinylidene fluoride), 폴리아크릴로니트릴(PAN, Polyacrylonitrile), 폴리이미드(Polyimide), 폴리에테르이미드(PEI, Polyether lmide), 폴리아미드(PA, Polyamide), 셀룰로오즈 아세테이트(Cellulose acetate) 및 셀룰로오스 트리아세테이트(Cellulose triacetate)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 복합 분리막용 지지체
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4
복합 분리막용 지지체의 제조방법에 있어서,지지체에 질소를 코팅하는 단계를 포함하는 복합 분리막용 지지체의 제조방법
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5
복합 분리막용 지지체의 제조방법에 있어서,지지체에 플라즈마 처리하는 단계를 포함하는 복합 분리막용 지지체의 제조방법
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6 |
6
1) 지지체에 플라즈마를 처리하는 단계; 및2) 상기 1)단계 이후에 지지체에 질소를 코팅하는 단계;를 포함하는 복합 분리막용 지지체의 제조방법
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7 |
7
제 4항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지체는 다공성 고분자 지지체인 것을 특징으로 하는 복합 분리막용 지지체의 제조방법
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8 |
8
제 7항에 있어서,상기 다공성 고분자 지지체는 폴리술폰(PSF, Polysulfone), 폴리에테르술폰(PES, Polyether sulfone), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF, Polyvinylidene fluoride), 폴리아크릴로니트릴(PAN, Polyacrylonitrile), 폴리이미드(Polyimide), 폴리에테르이미드(PEI, Polyether lmide), 폴리아미드(PA, Polyamide), 셀룰로오즈 아세테이트(Cellulose acetate) 및 셀룰로오스 트리아세테이트(Cellulose triacetate)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 복합 분리막용 지지체의 제조방법
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9 |
9
제 4항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제조방법에 의해 제조된 지지체는 접촉각이 10~50 °이고, 표면 거칠기는 0
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10
제 1항에 따른 지지체 또는 제 4항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 의해 제조된 지지체를 포함하는 복합 분리막
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11
제 10항에 있어서,상기 지지체의 표면에는 그래핀옥사이드 코팅층 또는 그래핀 옥사이드 필름층이 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 복합 분리막
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12
제 10항에 따른 복합 분리막을 포함하는 기체 분리막
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13
제 10항에 따른 복합 분리막을 포함하는 수처리 분리막
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