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기재 상에, 하기 화학식 1의 반복단위를 포함한 하드세그먼트와, 폴리(메타)아크릴레이트계 반복단위, 폴리알킬렌 옥사이드계 반복단위, 폴리비닐피리딘계 반복단위, 폴리스티렌계 반복단위, 폴리디엔계 반복단위 및 폴리락톤계 반복단위로 이루어진 군에서 선택된 고분자 반복단위를 1종 이상 포함한 소프트세그먼트를 포함하는 블록공중합체의 박막을 형성하는 단계; 블록공중합체의 박막에서, 상기 하드세그먼트 및 소프트세그먼트를 라멜라 형태 또는 실린더 형태로 배향시키는 단계; 소프트세그먼트를 선택적으로 제거하는 단계; 하드세그먼트 상에 금속 전구체를 흡착시키는 단계; 및 하드세그먼트를 제거하는 단계를 포함하는 금속 나노와이어 또는 금속 나노메쉬인 금속 나노구조체의 형성 방법: [화학식 1]상기 화학식 1에서, n은 5 내지 600의 정수이고, R은 수소 또는 메틸이고, R'는 X, , , 또는 이고, X는 -Z-R"이고, Y는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌이고, Z는 탄소수 6 내지 20의 아릴렌이고, R"은 탄소수 10 내지 20의 선형 또는 분지형 탄화수소, 또는 탄소수 10 내지 20의 선형 또는 분지형 퍼플루오로하이드로카본(perfluorohydrocarbon)이다
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제 1 항에 있어서, 블록공중합체는 10 내지 90중량%의 하드세그먼트와, 90 내지 10중량%의 소프트세그먼트를 포함하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 블록공중합체는 결정성 하드세그먼트를 포함하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 5 내지 50 nm의 선폭을 갖는 복수의 금속 나노와이어를 5 내지 100 nm의 간격으로 형성하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 5 내지 70 nm의 직경을 갖는 복수의 금속 나노메쉬를 5 내지 100 nm의 간격으로 형성하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 배향 단계는 상기 블록공중합체의 박막을 용매숙성시키거나, 하드세그먼트의 융점 및 소프트세그먼트의 유리 전이 온도 이상에서 열처리하는 단계를 포함하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 배향 단계에 의해, 상기 하드세그먼트와 소프트세그먼트가 기재에 수직한 라멜라 형태 또는 실린더 형태로 배열되되, 상기 실린더는 기재의 평면 방향으로 사각 모양 또는 육각 벌집 모양으로 배열되는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 배향 단계 후에, 하드세그먼트에 선택적으로 흡착 가능한 물질을 상기 박막 상에 흡착시키는 단계를 더 포함하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 소프트세그먼트의 선택적 제거 단계는 블록공중합체 박막에 자외선을 조사하는 단계를 포함하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 전구체는 중성의 금속염의 수용액 형태로 사용되는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 전구체는 Pt, Pd, Co, Fe, Ni, Au, Ti, Cu, Ta, W 및 Ag로 이루어진 군에서 선택된 금속의 양이온으로부터 제조된 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 중성의 금속염은 Na2PtCl4, Na2PdCl4, K3Fe(CN)6, K3Co(CN)6, KAg(CN)2, CuCl2·6H2O 또는 HAuCl4을 포함하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 하드세그먼트의 제거 단계는 산소 플라즈마로 처리하는 단계를 포함하는 금속 나노구조체의 형성 방법
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