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폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물및 그제조방법, 이를 이용한 연료전지용 고분자 전해질막

  • 기술번호 : KST2015142460
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물및 그 제조 방법, 이를 이용한 연료전지용 고분자 전해질 막에 관한 것이다.이는 특히, 폴리술폰에 스티렌술폰산을 그라프트 공중합 시켜 그라프트 공중합물을 제조하고, 이 공중합물을 이용하여 연료전지용 고분자 전해질 막을 제조하는 것이다. 공중합물, 폴리스티렌 술폰산, 폴리술폰, 그라프트
Int. CL C08G 75/20 (2016.01.01) C08G 75/22 (2006.01.01) C08J 5/22 (2006.01.01)
CPC C08G 75/20(2013.01) C08G 75/20(2013.01) C08G 75/20(2013.01)
출원번호/일자 1020040061830 (2004.08.05)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0598159-0000 (2006.06.30)
공개번호/일자 10-2006-0013054 (2006.02.09) 문서열기
공고번호/일자 (20060707) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.08.05)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조창기 대한민국 서울특별시 강남구
2 안성국 대한민국 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최병길 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층(역삼동, 삼화빌딩)(특허법인 두성)
2 선종철 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층(역삼동, 삼화빌딩)(특허법인 두성)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.08.05 수리 (Accepted) 1-1-2004-0351481-11
2 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)
2004.08.06 수리 (Accepted) 1-1-2004-5124325-77
3 보정통지서
Request for Amendment
2004.08.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2004-0051989-26
4 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items
2004.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2004-0380259-50
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2005.10.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.11.16 수리 (Accepted) 9-1-2005-0073717-35
7 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent
2006.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2006-0002055-57
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0058997-22
9 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.03.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0172108-76
10 의견서
Written Opinion
2006.03.10 수리 (Accepted) 1-1-2006-0172109-11
11 등록결정서
Decision to grant
2006.06.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0354412-12
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5037763-28
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식의 반복단위로 구성되는 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물
2 2
제1항에 있어서, 상기 Ar1, Ar2, Ar3는, 방향족화합물로서 치환체가 없거나, 알킬치환체가 있거나, 실리콘, 산소, 황 또는 질소 원자를 포함하는 알킬 곁사슬을 치환체로 하는 방향족 화합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물
3 3
제1항 또는 2항에 있어서, 상기 Ar1 와 Ar2가 바람직하게는 1,4-페닐렌기이고, Ar3가 바람직하게는 1,4-페닐렌기, 이소프로필리덴디페닐렌기, 또는 헥사플로로 이소프로필리덴디페닐렌기인 것을 특징으로 하는 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물
4 4
제2항에 있어서, 상기 실리콘, 산소, 황 또는 질소 원자를 포함하는 알킬 곁사슬 치환체는, 탄소수가 30개 이하, 실리콘은 원자수가 100개 이하, 질소는 원자 수가 100개 이하, 산소는 원자수가 100개 이하, 황은 원자 수가 100개 이하인 것을 지칭하는 것을 특징으로 하는 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물
5 5
제1항에 있어서, 상기 화학식에서 그라프트된 폴리스티렌 술폰산을 대체하여 아크릴 산, 메타크릴 산, 비닐 포스폰 산, 비닐 케톤 또는 비닐 피롤리딘과 같은 단량체중에서 선택된 하나 이상의 단량체와 스티렌술폰산과의 공중합물이 사용되고, 공중합물중 스티렌술폰산 단량체의 비율이 25몰% 이상인 것을 특징으로 하는 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물
6 6
제1항 또는 제5항에 있어서, 상기 폴리스티렌 술폰산은, 스티렌술폰산을 포함하여 2개 이상의 단량체의 공중합으로부터 얻어진 것이며, 술폰산 기가 페닐기에 대하여 오르도, 메타, 파라 중 임의의 어느 한곳에 위치한 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물
7 7
제6항에 있어서, 상기 폴리스티렌 술폰산은, 스티렌술폰산의 비닐기에 수소대신 불소가 3개 치환된 단량체가 사용되는 것을 특징으로 하는 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물
8 8
폴리술폰에 리빙 라디칼 중합을 개시 할 수 있도록 관능기를 도입시키고, 관능기가 도입된 폴리술폰에 스티렌술폰산과 용매를 혼합한 후 질소 기류하에서 중합하며, 중합물을 분리한후 이를 메탄올에 침전시켜 고분자를 필터링한 후 이를 건조시키는 구성으로 이루어 진 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물의 제조방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 관능기로 클로로메틸기가 사용되며, 폴리술폰은 Udel®, Radel®중에서 선택 사용되고, 그라프트 공중합을 위하여 염화구리 및 디피리딜이 사용되는 것을 특징으로 하는 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰 공중합물의 제조방법
10 10
제8항의 방법으로 제조된 공중합물을 이용하여 제조한 연료전지용 고분자 전해질 막
11 11
제10항에 있어서, 상기 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 공중합물에 무기 첨가제가 그라프트 공중합체 중량의 5~40중량%로 포함되어 제조되는 것을 특징으로 하는 연료전지용 고분자 전해질 막
12 12
제11항에 있어서, 상기 무기첨가제는, H2PO4, TiO2, Al2O3 또는Hm(XxYyOz)(nH2O) 중에서 선택된 적어도 하나이상의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 연료전지용 고분자 전해질 막
13 13
제12항에 있어서, 상기 Hm(XxYyOz)(nH2O)는, X가 B, Al, Ga, Ge, Si, Sn, P, As, Sb, Te 및 제 1,2,3 그룹 전이원소 중에서 선택된 어느 하나이며, Y는 제 1,2,3 그룹 전이원소 중에서 선택된 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 연료전지용 고분자 전해질 막
14 13
제12항에 있어서, 상기 Hm(XxYyOz)(nH2O)는, X가 B, Al, Ga, Ge, Si, Sn, P, As, Sb, Te 및 제 1,2,3 그룹 전이원소 중에서 선택된 어느 하나이며, Y는 제 1,2,3 그룹 전이원소 중에서 선택된 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 연료전지용 고분자 전해질 막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.