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금속니켈이 도핑된 이산화티타늄 분말 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015142465
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광촉매용 이산화티타늄 분말에 관한 것으로서, 사염화티탄산(TiCl4)을 이용하여 티타닐클로라이드(TiOCl2) 수용액을 마련하는 단계와, 상기 티타닐클로라이드 수용액에서 준안정상태의 이산화티타늄(TiO2)분말을 형성하는 단계와, 상기 티타닐클로라이드 수용액으로부터 상기 준안정상태의 이산화티타늄분말을 수거하는 단계와, 상기 수거된 이산화티타늄분말에 금속 니켈(Ni)을 혼합하는 단계와, 상기 이산화티타늄분말과 니켈의 혼합물을 볼밀링함으로써 약 1∼10wt%의 니켈이 도핑된 이산화티타늄을 형성하는 단계를 포함하는 이산화티타늄분말 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 니켈로 도핑된 이산화티타늄분말은 큰 비표면적을 갖는 미세구조이면서, 니켈로 인해 에너지밴드갭 내에 포획준위를 형성하여 가시광선에서도 반응이 가능하므로, 광활성 및 광효율 측면에서 매우 우수하고 강한 산화-환원력을 갖는 유기물분해용 광촉매제로서 사용될 수 있다. 이산화티타늄 분말, 기계적합금화법, 광촉매제
Int. CL B01J 21/06 (2006.01.01) F01N 3/021 (2006.01.01) B01J 35/00 (2006.01.01) B01J 37/00 (2006.01.01) B01J 37/04 (2006.01.01)
CPC B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01) B01J 21/063(2013.01)
출원번호/일자 1020040027245 (2004.04.20)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0576375-0000 (2006.04.26)
공개번호/일자 10-2005-0101985 (2005.10.25) 문서열기
공고번호/일자 (20060503) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.04.20)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이경섭 대한민국 서울특별시용산구
2 김선재 대한민국 서울특별시노원구
3 김동현 대한민국 서울특별시동대문구
4 박하성 대한민국 서울특별시성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2004-0162379-73
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2005.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2005.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2005-0061211-19
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2005.10.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0537717-89
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2005.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2005-0769262-90
6 의견서
Written Opinion		 2006.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2006-0070277-14
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.01.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0070278-59
8 등록결정서
Decision to grant		 2006.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0216781-30
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.03.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5037763-28
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
사염화티탄산(TiCl4)을 이용하여 티타닐클로라이드(TiOCl2) 수용액을 마련하는 단계;상기 티타닐클로라이드 수용액을 60∼100℃의 온도범위에서 유지하여 준안정상태의 이산화티타늄분말(TiO2)을 형성하는 단계;상기 티타닐클로라이드 수용액을 여과지에 통과시켜 상기 준안정상태의 이산화티타늄분말을 추출하고 상기 추출된 이산화티타늄분말을 60℃∼80℃의 온도에서 3시간 내지 6시간동안 건조시켜 상기 준안정상태의 이산화티타늄분말을 수거하는 단계;상기 수거된 이산화티타늄분말에 금속 니켈(Ni)을 혼합하는 단계; 및상기 이산화티타늄분말과 니켈(Ni)의 혼합물을 볼밀링함으로써 1∼10wt%의 니켈(Ni)이 도핑된 이산화티타늄을 형성하는 단계를 포함하는 이산화티타늄분말 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 이산화티타늄분말 중 니켈의 함량은 6∼9wt%임을 특징으로 하는 이산화티타늄분말 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 티타닐클로라이드 수용액을 마련하는 단계는, 사염화티탄산을 얼음 또는 얼음물로 제1 농도의 안정화된 티타닐클로라이드 수용액을 마련하는 단계와, 상기 제1 농도의 티타닐클로라이드 수용액에 물을 첨가하여 상기 제1 농도보다 낮은 제2 농도로 희석시키는 단계를 포함함을 특징으로 이산화티타늄분말 제조방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 제1 농도는 1
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서, 상기 볼밀링공정은 상기 혼합물과 볼의 중량비를 10:1∼20:1로 하여 실행됨을 특징으로 하는 이산화티타늄분말 제조방법
8 8
제1항에 있어서,상기 볼밀링공정은 100∼200rpm의 회전속도로 10시간이상 실행됨을 특징으로 하는 이산화티타늄분말 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 볼밀링공정에서 사용되는 볼과 바울은 세라믹물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 이산화티타늄분말 제조방법
10 10
삭제
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입자크기가 20㎚이하이고, 가시광선대역의 파장을 흡수하는 에너지 밴드갭을 갖도록 1∼10wt%의 니켈(Ni)이 도핑된 이산화티타늄분말
12 12
제11항에 있어서,상기 이산화티타늄분말의 니켈 함량은 6 ∼9wt%인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄분말
13 12
제11항에 있어서,상기 이산화티타늄분말의 니켈 함량은 6 ∼9wt%인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄분말
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.