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미세 구조체를 갖는 기판 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015142499
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법이 설명된다. 상기 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법은, 보조 기판 상에 서로 다른 질량을 갖는 구조체들을 형성하는 단계, 상기 구조체들 상에 점성 기판(viscosity substrate)을 형성하는 단계, 상기 구조체들을 상기 점성 기판 내부로 이동시키는 단계, 및 상기 보조 기판을 제거하는 단계를 포함한다.
Int. CL B82B 1/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B82B 3/00(2013.01) B82B 3/00(2013.01)
출원번호/일자 1020140073823 (2014.06.17)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1536526-0000 (2015.07.07)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150715) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.03.05)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이준규 대한민국 경기 안산시 상록구
2 김태환 대한민국 서울 강남구
3 추동철 대한민국 경기도 양주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0566172-39
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
3 [우선심사신청 취하]취하(포기)서
[Withdrawal of Request for Accelerated Examination] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2015.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0217395-52
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0216998-05
5 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.03.05 취하 (Withdrawal) 1-1-2015-0216689-02
6 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0217416-23
7 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search		 2015.03.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2015.03.18 수리 (Accepted) 9-1-2015-0020091-77
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0210022-87
10 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2015.04.08 수리 (Accepted) 9-1-2015-0021835-18
11 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2015.04.09 수리 (Accepted) 9-1-2015-0022100-47
12 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2015.04.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0027188-15
13 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2015.04.11 수리 (Accepted) 9-1-2015-0027546-57
14 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2015.04.12 수리 (Accepted) 9-1-2015-0027859-32
15 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.05.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0503027-52
16 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.05.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-0503248-35
17 등록결정서
Decision to grant		 2015.06.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0427695-16
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
보조 기판 상에 서로 다른 질량을 갖는 구조체들을 형성하는 단계;상기 구조체들 상에 점성 기판(viscosity substrate)을 형성하는 단계;상기 구조체들을 상기 점성 기판 내부로 이동시키는 단계; 및상기 보조 기판을 제거하는 단계를 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법
2 2
제1 항에 있어서, 상기 구조체들을 상기 점성 기판 내부로 이동시키는 단계는, 상기 점성 기판 및 상기 보조 기판을 뒤집어, 상기 점성 기판이 상기 보조 기판보다 지면(ground)에 더 인접하게 배치시키는 단계를 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법
3 3
제1 항에 있어서, 상기 구조체들은 은 나노 구조체를 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법
4 4
제1 항에 있어서, 상기 점성 기판은, 상기 보조 기판과 인접한 제1 면, 및 상기 제1 면에 대향하는 제2 면을 포함하고, 상기 구조체들을 상기 점성 기판 내부로 이동시키는 단계에 의해, 상대적으로 질량이 큰 상기 구조체들은 상기 제2 면에 인접하게 배치되고, 상대적으로 질량이 작은 상기 구조체들은 상기 제1 면에 인접하게 배치되는 것을 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법
5 5
제1 항에 있어서, 상기 보조 기판을 제거하기 전, 상기 점성 기판을 경화시키는 단계를 더 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법
6 6
제1 항에 있어서, 상기 점성 기판을 형성하기 전, 상기 구조체들이 형성된 상기 보조 기판을 열처리하는 단계를 더 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법
7 7
제1 항에 있어서, 상기 구조체들을 상기 보조 기판 상에 형성하기 전, 상기 보조 기판의 상부면 상에 이형층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 구조체들은 상기 이형층 상에 형성되는 것을 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법
8 8
제1 항에 있어서, 상기 보조 기판 상에 상기 구조체들을 형성하기 전, 상기 보조 기판의 표면의 표면 에너지를 감소시키는 전처리 공정을 수행하는 단계를 더 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판의 제조 방법
9 9
제8 항에 있어서, 상기 전처리 공정은, 상기 보조 기판의 상기 표면에 플라즈마(plasma), UV(ultra violet), 또는 오존(ozone) 중에서 적어도 어느 하나를 제공하는 것을 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판이 제조 방법
10 10
제1 면, 및 상기 제1 면에 대향하는 제2 면을 포함하는 베이스 기판; 및 상기 베이스 기판 내부에 배치된 서로 다른 질량을 갖는 구조체들을 포함하되,상기 베이스 기판의 상기 제1 면에서 상기 베이스 기판의 제2 면으로 갈수록, 상기 베이스 기판 내의 상기 구조체들의 질량이 증가되며, 상기 제1 면에 인접한 상기 구조체들의 크기는, 상기 제2 면에 인접한 상기 구조체들의 크기보다 작은 것을 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판
11 11
제10 항에 있어서, 상기 구조체들은 탄소나노튜브 물질, 반도체 물질, 산화물 반도체 물질, 코어쉘(core/shell) 형태를 가지는 양자점 물질, 전도성 유기물, 코어쉘 형태를 가지는 반도체 나노선 물질 중 하나로 이루어진 미세 구조를 갖는 기판
12 12
제10 항에 있어서, 상기 구조체들은, 나노 와이어(wire) 및 나노 입자(particle)을 포함하고, 상기 나노 입자는 상기 제2 면보다 상기 제1 면에 인접하게 배치되고, 상기 나노 와이어는 상기 제1 면보다 상기 제2 면에 인접하게 배치되는 것을 포함하는 미세 구조체를 갖는 기판
13 13
제12 항에 따른 미세 구조체를 갖는 기판의 상기 나노 와이어를 전극으로 사용하고, 제12 항에 따른 미세 구조체를 갖는 기판의 상기 나노 입자를 광 추출 패턴으로 사용하는 전자 소자
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1 WO2015194720 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 교육부 한양대학교산학협력단 이공분야 기초연구사업 / 일반연구자지원사업 / 기본연구(유형I) 유기물-무기물나노구조를 사용한 태양전지의 전하수송 메카니즘과 효율증진 연구