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투과도가 향상된 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015142585
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 투과도가 향상된 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막은 종래 산화그래핀이 다공성 지지체 상에 코팅된 복합막에 비해 투과도가 현저히 개선된 것이다. 또한 본 발명에 따른 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막의 제조방법에 의해 복합막을 제조하게 되면, 투과도가 개선된 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막이 제조된다. 특히 수처리 분리막에서의 수투과도나, 기체 분리막에서의 기체 투과도를 향상시킨다.
Int. CL B01D 69/12 (2006.01.01) B01D 69/10 (2006.01.01) B01D 67/00 (2006.01.01) B01D 71/00 (2006.01.01)
CPC B01D 69/12(2013.01) B01D 69/12(2013.01) B01D 69/12(2013.01) B01D 69/12(2013.01) B01D 69/12(2013.01) B01D 69/12(2013.01)
출원번호/일자 1020140028933 (2014.03.12)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0106632 (2015.09.22) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.03.12)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박호범 대한민국 서울특별시 성동구
2 김효원 대한민국 서울특별시 광진구
3 조영훈 대한민국 서울특별시 성동구
4 유병민 대한민국 경기도 성남시 중원구
5 황윤성 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-0238936-55
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2019.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2019-0253126-70
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2020.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0225481-22
8 [지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
 2020.06.01 수리 (Accepted) 1-1-2020-0553354-45
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
 2020.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2020-0624609-36
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2020.06.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0624641-98
11 등록결정서
Decision to grant		 2020.11.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0759763-27
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번호 청구항
1 1
다공성 고분자 지지체; 및상기 다공성 고분자 지지체 상에 접촉각이 20-60 °인 산화그래핀 코팅층;을 포함하는 복합막
2 2
제 1항에 있어서,상기 20-60 °인 접촉각은 자외선 조사 또는 플라즈마 처리되어 형성된 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막
3 3
제 2항에 있어서,상기 자외선은 200-400 nm 에서 0
4 4
제 2항에 있어서,상기 플라즈마는 10-100 W에서 1-15 분간 처리하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막
5 5
1) 산화그래핀 분산액을 다공성 고분자 지지체 상에 코팅하는 단계; 및 2) 상기 1)단계 이후 자외선 조사 또는 플라즈마 처리하여 접촉각이 20-60 °인 산화그래핀 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막의 제조방법
6 6
제 5항에 있어서,상기 2)단계에서 자외선은 200-400 nm 에서 0
7 7
제 5항에 있어서,상기 2)단계에서 플라즈마는 10-100 W에서 1-15 분간 처리하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 산화그래핀 코팅층을 포함하는 복합막의 제조방법
8 8
제 1항에 따른 복합막 또는 제 5항에 따라 제조된 복합막을 포함하는 기체 분리막
9 9
제 8항에 있어서,상기 기체 분리막의 기체 투과도는 50-200 GPU인 것을 특징으로 하는 기체 분리막
10 10
제 1항에 따른 복합막 또는 제 5항에 따라 제조된 복합막을 포함하는 수처리 분리막
11 11
제 10항에 있어서,상기 수처리 분리막의 수투과도는 1-10 LMH/bar인 것을 특징으로 하는 수처리 분리막
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN106102884 CN 중국 FAMILY
2 KR1020150108631 KR 대한민국 FAMILY
3 KR1020150109931 KR 대한민국 FAMILY
4 US10668694 US 미국 FAMILY
5 US20180170002 US 미국 FAMILY
6 WO2015137678 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN106102884 CN 중국 DOCDBFAMILY
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