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중성빔을 이용하여 플라즈마를 발생시키는 장치로서,석영 컵으로 이루어지고 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부,상기 플라즈마 발생부의 외주에 마련된 RF인가용 안테나,상기 플라즈마 발생부의 외주에 마련된 냉각수 공급부,상기 플라즈마 발생부와 직렬로 연통된 이그나이터 및상기 장치 내에서 발생하는 전자파를 차단하기 위한 EMI(electromagnetic interference) 필터부를 포함하고,상기 플라즈마를 발생하기 위한 가스는 상기 이그나이터로 공급되고, 상기 이그나이터는 상기 플라즈마 발생부보다 동일한 가스원의 유량에서 국부적으로 높은 압력을 갖는 것을 특징으로 중성빔을 이용한 플라즈마 발생장치
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제 1항에 있어서,상기 이그나이터는 상기 플라즈마 발생부보다 작은 부피로 이루어진 것을 특징으로 중성빔을 이용한 플라즈마 발생장치
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제 2항에 있어서,상기 이그나이터는 상기 플라즈마 발생부와 연통하는 홀을 구비한 것을 특징으로 중성빔을 이용한 플라즈마 발생장치
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제 3항에 있어서,상기 홀은 0
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제 4항에 있어서,상기 이그나이터는 상기 플라즈마 발생부의 상부에 마련되는 것을 특징으로 중성빔을 이용한 플라즈마 발생장치
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삭제
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중성빔을 이용하기 위한 플라즈마용 가스원을 마련하는 제1의 단계,상기 가스원을 이그나이터로 공급하는 제2의 단계,상기 이그나이터에서 생성된 플라즈마를 플라즈마 발생부로 공급하는 제3의 단계를 포함하고,상기 이그나이터와 상기 플라즈마 발생부는 직렬로 연통되고,상기 제3의 단계는 상기 이그나이터에 마련된 홀을 통해 상기 플라즈마 발생부로 공급되며,EMI(electromagnetic interference) 필터부로 장치 내에서 발생하는 전자파를 차단하는 것을 특징으로 하는 중성빔을 이용한 플라즈마 발생방법
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제 7항에 있어서,상기 이그나이터는 상기 플라즈마 발생부보다 작은 부피로 이루어진 것을 특징으로 중성빔을 이용한 플라즈마 발생방법
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제 8항에 있어서,상기 홀은 0
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제 9항에 있어서,상기 이그나이터는 상기 플라즈마 발생부보다 동일한 가스원의 유량에서 국부적으로 높은 압력을 갖는 것을 특징으로 중성빔을 이용한 플라즈마 발생방법
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