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외부의 가스공급부와 연결되어 반응가스 또는 분위기 가스를 유입하기 위한 가스 유입구를 구비한 챔버와;
챔버 외부의 접지단과 연결되어 챔버의 중앙에 설치되며, 상부에서 하부까지 일정한 폭을 갖는 중앙 그라운드 전극과;
챔버 외부의 전원공급부와 연결되며, 챔버 내에 중앙 그라운드 전극의 양측으로 이격되어 상기 중앙 그라운드 전극의 상부에서 하부까지 일정한 간격을 갖도록 대향하여 설치되며, 하부 그라운드 전극에 대향하여 챔버의 중심방향에서 측면방향으로 연장된 형상의 하부면을 구비하는 제1 및 제2 측면 파워전극과;
챔버 외부의 접지단과 연결되며, 챔버의 하측에 상기 중앙 그라운드 전극과 제1 및 제2 측면 파워전극에 수직한 방향으로 설치되고, 발생된 플라즈마를 챔버의 외부로 분사하는 플라즈마 분사구가 형성된 하부 그라운드 전극을 구비하여,
챔버 내에 가스공급과 함께 전원공급부로부터 제1 및 제2 측면 파워전극으로 전원이 인가됨에 따라, 상기 제1, 2 측면 파워전극과 중앙 그라운드 전극 및 하부 그라운드 전극 사이의 공간에 발생된 플라즈마가 하부 그라운드 전극의 플라즈마 분사구를 통해 외부로 분사되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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제1 항에 있어서,
상기 하부 그라운드 전극은 절연물질(dielectric material)로 코팅되되, 상기 플라즈마 분사구는 절연물질의 사이에 금속(metal)이 코팅된 형태로 이루어지는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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제1 항에 있어서,
상기 하부 그라운드 전극은 절연물질(dielectric material)로 코팅되되, 상기 플라즈마 분사구는 절연물질 코팅층의 하부에 금속(metal)이 코팅된 형태로 이루어지는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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제2 항 또는 제3 항에 있어서,
상기 플라즈마 분사구는 하부 그라운드 전극에 모세관(capillary) 또는 슬릿(slit) 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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외부의 가스공급부와 연결되어 반응가스 또는 분위기 가스를 유입하기 위한 가스 유입구를 구비한 챔버와;
챔버 외부의 접지단과 연결되어 챔버의 중앙에 설치되며, 상부에서 하부까지 일정한 폭을 갖는 중앙 그라운드 전극과;
챔버 외부의 전원공급부와 연결되며, 챔버 내에 중앙 그라운드 전극의 양측으로 이격되어 상기 중앙 그라운드 전극의 상부에서 하부까지 일정한 간격을 갖도록 대향하여 설치되며, 하부 그라운드 전극에 대향하여 챔버의 중심방향에서 측면방향으로 연장된 형상의 하부면을 구비하는 제1 및 제2 측면 파워전극과;
챔버 외부의 접지단과 연결되며, 챔버 외부의 하측에 상기 중앙 그라운드 전극과 제1 및 제2 측면 파워전극에 수직한 방향으로 설치되는 하부 그라운드 전극을 구비하여,
챔버 내에 가스공급과 함께 전원공급부로부터 제1 및 제2 측면파워전극으로 전원이 인가됨에 따라, 상기 제1 및 제2 측면 파워전극과 상기 중앙 그라운드 전극 및 하부 그라운드 전극 간의 공간에 플라즈마 방전이 일어나도록 구성되는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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삭제
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제1항 또는 제5항에 있어서,
상기 중앙 그라운드 전극과 제1 및 제2 측면 파워전극은 절연물질로 코팅되는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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제7 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 측면 파워전극의 상기 중앙 그라운드 전극 및 하부 그라운드 전극과의 대향면에는 돌기가 형성되는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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9
제8 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 측면 파워전극 면에 형성된 돌기는 절연물질(dielectric material)로 코팅되거나, 절연체 구조물을 구비하는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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제9 항에 있어서,
상기 중앙 그라운드 전극과 제1 및 제2 측면 파워전극 사이의 각 영역은 물리적으로 서로 분리되고, 상기 가스 유입구는 상기 분리된 각 영역의 상부에 구비되는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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11
제1항 또는 제5항에 있어서,
챔버의 하측으로부터 피처리물과의 반응 후에 남겨진 잔여가스를 이동시키기 위한 배기통로와;
상기 배기통로와 연결된 가스관을 통해서 배기통로를 거쳐 이동되는 잔여가스를 수집하는 회수시스템과;
상기 회수시스템으로부터 수집된 가스를 이송받아 재생처리하는 리사이클 시스템을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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제11 항에 있어서,
상기 리사이클 시스템은 챔버의 가스 유입구와 가스 공급라인을 통해 연결되어, 리사이클 시스템에서 재생처리된 가스가 챔버의 내부로 재공급되도록 구성한 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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13
제12 항에 있어서,
상기 배기통로는 챔버의 하측으로부터 챔버의 외주면을 따라 챔버의 상측으로 연장되도록 형성한 것을 특징으로 하는 확장형 파워전극을 구비한 대기압 플라즈마 발생장치
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