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기판 상에 무기물의 소오스층을 형성하되, 상기 소오스층은 반고체(semisolid) 상태로 형성하는 단계;
상기 소오스층을 전기유체역학적 리소그래피(electrohydrodynamic lithography)(EHL) 법으로 패터닝하여 소오스층 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 소오스층 패턴을 레이저로 어닐링하되, 120 W/cm2 이하의 파워를 갖는 레이저로 상기 어닐링을 10분 이내로 진행하여 상기 소오스층 패턴을 무기물 패턴으로 변화시키는 단계;를 포함하는 무기물층의 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 소오스층은 무기물 전구체, 상기 무기물 전구체의 안정화제 및 용매를 포함하는 무기물층의 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 기판은 유리기판인 무기물층의 형성방법
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제 1 항에 있어서, 상기 소오스층 패턴을 어닐링하기 전,
상기 기판을 예열하는 단계를 더 포함하는 무기물층의 형성방법
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제 6 항에 있어서,
상기 기판은 400℃ 미만의 온도로 예열하는 무기물층의 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 어닐링은 5분 이내로 진행하는 무기물층의 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 레이저는 적외선 레이저, 가시광선 레이저 및 자외선 레이저 중 하나인 무기물층의 형성방법
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10
제 1 항에 있어서,
상기 어닐링은 산화 또는 환원 분위기에서 수행하는 무기물층의 형성방법
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제 1 항에 있어서,
상기 무기물 패턴은 절연체, 반도체 및 자성체 중 하나인 무기물층의 형성방법
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12
제 1 항에 있어서,
상기 무기물 패턴은 산화물 또는 질화물인 무기물층의 형성방법
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유리기판 상에 무기물의 소오스층을 형성하되, 상기 소오스층은 반고체(semisolid) 상태로 형성하는 단계;
상기 소오스층을 전기유체역학적 리소그래피(electrohydrodynamic lithography)(EHL) 법으로 패터닝하여 소오스층 패턴을 형성하는 단계;
상기 유리기판을 예열하는 단계; 및
상기 유리기판이 예열된 상태에서, 상기 소오스층 패턴을 레이저로 어닐링하되, 상기 어닐링을 10분 이내로 진행하여 상기 소오스층 패턴을 무기물 패턴으로 변화시키는 단계;를 포함하는 무기물층의 형성방법
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