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산화 또는 환원반응을 통해 고체입자를 생성시키고, 다수개가 다층을 형성하도록 설치되는 유동층 반응실과;
상기 유동층 반응실의 내부에 설치되고, 상기 고체입자와 반응하기 위한 반응기체를 공급하는 분산판과;
상기 유동층 반응실에서 반응이 끝난 기체를 분리하는 사이클론과;
상기 유동층 반응실의 사이를 관통하도록 설치되고, 최하단에 위치한 상기 유동층 반응실에서 흡입된 고체입자를 상승시켜 최상단에 위치한 유동층 반응실로 유입시키는 상승관을 포함하는 유동층 반응장치
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제 1 항에 있어서,
상기 상승관의 하단에는 상기 유동층 반응실과 연통하는 적어도 하나 이상의 오리피스홀이 형성됨을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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3
제 2 항에 있어서,
상기 상승관에서는 고체입자와 반응기체 간에 발열반응이 일어남을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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4
제 3 항에 있어서,
상기 유동층 반응실은 상부에서부터 제 1유동층 반응실, 제 2유동층 반응실 및 제 3유동층 반응실로 구획되어 형성됨을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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5
제 4 항에 있어서,
상기 제 1유동층 반응실, 제 2유동층 반응실 및 상승관에서는 하기 식의 반응이 차례로 일어남을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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6
제 5 항에 있어서,
상기 식(1)에서 생성되는 CO2,H2O와, 식(2)에서 생성되는 H2는 각각 상기 사이클론에 의해 분리됨을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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7
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 다수개가 다층을 형성하는 유동층 반응실의 사이에는 반응이 끝난 고체입자를 이송하기 위한 고체이송부가 설치됨을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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8
제 7 항에 있어서,
상기 상승관의 상단에는 사이클론이 설치되어 상기 상승관에서 이송된 고체입자를 배출시키고, 상기 고체입자는 상기 사이클론의 끝단에 형성된 주입부를 통해 상기 제 1유동층 반응실로 주입됨을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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9
제 1유동층 반응실과;
상기 제 1유동층 반응실에서 반응이 끝난 고체입자가 유입되는 제 2유동층 반응실과;
상기 제 2유동층 반응실에서 반응이 끝난 고체입자가 유입되는 제 3유동층 반응실과;
상기 제 3유동층 반응실을 통과한 고체입자를 흡입하여 상승시키고, 반응기체와 반응이 끝난 고체입자를 상기 제 1유동층 반응실로 다시 주입시키는 상승관을 포함하는 유동층 반응장치
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10
제 9 항에 있어서,
상기 제1, 제2 및 제3유동층 반응실 및 상승관에서 고체입자와 반응하기 위한 반응기체를 공급하는 분산판과; 상기 유동층 반응실에서 반응이 끝난 기체를 분리하는 사이클론을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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11
제 10 항에 있어서,
상기 상승관의 하단에는 상기 제 3유동층 반응실과 연통하는 적어도 하나 이상의 오리피스홀이 형성됨을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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12
제 11 항에 있어서,
상기 상승관에서는 고체입자와 반응기체 간에 발열반응이 일어남을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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13
제 12 항에 있어서,
상기 제 1유동층 반응실, 제 2유동층 반응실 및 상승관에서는 하기 식의 반응이 차례로 일어남을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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14
제 13 항에 있어서,
상기 식(1)에서 생성되는 CO2, H2O와, 식(2)에서 생성되는 H2는 각각 상기 사이클론에 의해 분리됨을 특징으로 하는 유동층 반응장치
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