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나노기공 구조를 형성하는 다공성 영역, 및 비다공성(non-porous) 영역을 포함하고,상기 다공성 영역은 복수의 구형체가 3차원 방향으로 서로 접하도록 쌓인 적층체 형상으로 형성되고,상기 비다공성 영역은 상기 다공성 영역의 복수의 구형체 간의 간극을 메우는 구조로서 형성되며,상기 다공성 영역을 형성하는 복수의 구형체는 인접하는 구형체 간에 서로 접하여 연결된(interconnected) 구조이고,상기 다공성 영역은 유기 다공성 물질, 무기 다공성 물질, 유무기 하이브리드 다공성 물질 또는 이들의 조합을 포함하는혼성 다공성 구조체
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제1항에 있어서,상기 다공성 영역은 기공도(porosity)가 1 내지 99 부피%인혼성 다공성 구조체
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제1항에 있어서,상기 유기 다공성 물질은 자기조립성 블록 공중합체, 양친성 액정(liquid crystal), 금속 함유 자기조립성 분자, 또는 이들의 2종 이상의 조합을 포함하고,상기 무기 다공성 물질은 제올라이트, 금속산화물, 메조포러스 카본, 또는 이들의 2종 이상의 조합을 포함하고,상기 유무기 하이브리드 다공성 물질은 MOF(metal-organic framework), 또는 이들의 2종 이상의 조합을 포함하는혼성 다공성 구조체
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제1항에 있어서,상기 다공성 영역은 0
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제1항에 있어서,상기 유기 다공성 물질은 자기조립성 블록공중합체이고,상기 자기조립성 블록공중합체는 자기조립 구조를 형성하고,상기 자기조립 구조는 상기 자기조립성 블록공중합체의 적어도 일종의 블록을 형성하는 중합체의 일부 또는 전부가 제거되어 형성된 나노기공을 포함하는혼성 다공성 구조체
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제7항에 있어서,상기 자기조립 구조는 라멜라(lamellar) 구조, 실린더(cylinder) 구조, 스피어(sphere) 구조, 자이로이드(gyroid) 구조, 또는 이들은 적어도 하나의 조합인혼성 다공성 구조체
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제1항에 있어서,상기 구형체는 1nm 내지 100㎛의 평균 직경을 가지는혼성 다공성 구조체
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제1항에 있어서,상기 구형체가 최조밀 쌓임 구조(closest packing structure)로 적층된 구조인혼성 다공성 구조체
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제1항에 있어서,상기 다공성 영역의 부피가 전체 혼성 다공성 구조체 중 1 내지 99 부피%인혼성 다공성 구조체
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제1항에 있어서,상기 비다공성 영역은 무기 산화물, 열가소성 수지, 경화성 수지, 또는 이들의 조합으로부터 선택된 하나를 포함하는혼성 다공성 구조체
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제1항에 있어서,상기 혼성 다공성 구조체는 대향하는 2개의 표면과 두께를 갖는 막의 형상이고,상기 2개의 표면은 각각 다공성 영역이 차지하는 상대적인 면적이 전체 표면 중 5 내지 99%이고,상기 두께 방향의 막의 벽면은 다공성 영역이 노출되지 않은 혼성 다공성 구조체
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제13항에 있어서,상기 막의 두께가 10nm 내지 1000㎛인혼성 다공성 구조체
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제1항, 제3항, 및 제5항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 혼성 다공성 구조체로 형성된 막을 포함하는 분리막
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제15항에 있어서,지지체 막을 더 포함하여 복합막으로 형성된분리막
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매크로기공 형성용 복수의 구형체 입자를 3차원 방향으로 서로 접하도록 쌓은 적층체를 형성하는 단계;상기 적층체를 형성하는 복수의 구형체 입자 간의 간극을 메우도록 액상의 비다공성 영역 형성용 물질을 주입한 뒤 경화시켜 비다공성 영역을 형성하는 단계;상기 매크로기공 형성용 구형체 입자를 용해시켜 제거하여 최조밀 쌓임 구조로 적층된 구형체 형상의 매크로기공을 갖는 템플레이트(template)를 형성하는 단계;적어도 둘 이상의 중합체가 공유결합으로 연결된 자기조립성 블록공중합체를 상기 템플레이트의 매크로기공 내에 주입하여 혼성 구조체를 형성하는 단계; 및상기 혼성 구조체 중 자기조립성 블록공중합체 내의 적어도 일종의 블록을 형성하는 중합체를 일부 또는 전부 용출시켜 제거하여 나노기공을 형성하여 혼성 다공성 구조체를 형성하는 단계를 포함하는 혼성 다공성 구조체를 제조하는 방법
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제17항에 있어서,상기 매크로기공 형성용 구형체 입자의 평균 직경은 1nm 내지 100㎛인혼성 다공성 구조체를 제조하는 방법
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제17항에 있어서,상기 매크로기공 형성용 구형체 입자로서 콜로이드 입자를 사용하여, 스핀 코팅(spin coating), 침적 코팅(dip coating), 침전(sedimentation), 스프레이법, 전기영동법, LB(Langmuir-Blodgett)법, 형틀-가이드법 또는 이들의 조합으로 이루어진 군부터 선택된 하나의 방법에 의해 상기 적층체를 형성하는 단계를 포함하는혼성 다공성 구조체를 제조하는 방법
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제17항에 있어서,상기 적층체를 형성하는 복수의 구형체 입자 간의 간극을 메우도록 액상의 비다공성 영역 형성용 물질을 회전 도포법, 모세관 충전법, 침적코팅, 스프레이법 또는 이들의 조합으로 이루어진 군부터 선택된 하나의 방법에 의해 주입한 뒤 경화시켜 비다공성 영역을 형성하는 단계를 포함하는혼성 다공성 구조체를 제조하는 방법
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제17항에 있어서,상기 매크로기공 형성용 구형체 입자를 용해시켜 제거하기 위하여 사용되는 용매는 비다공성 영역을 용해시키지 않는 것인혼성 다공성 구조체를 제조하는 방법
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제17항에 있어서,상기 자기조립성 블록공중합체를 상기 템플레이트의 매크로기공 내에 주입하는 단계는 모세관 충전법(capillary filling), 스핀 코팅(spin coating) 침적 코팅, 스프레이 코팅 또는 이들의 조합으로 이루어진 군부터 선택된 하나의 방법에 의해 수행되는혼성 다공성 구조체를 제조하는 방법
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제17항에 있어서,상기 자기조립성 블록공중합체의 적어도 일종의 블록을 형성하는 중합체를 선택적으로 용해하는 용매로 에칭하여 상기 나노기공을 형성하는혼성 다공성 구조체를 제조하는 방법
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