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진공 챔버 내에 기판이 안착되는 서셉터를 구비하고 상기 진공 챔버 내부에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생장치에 있어서,상기 진공 챔버의 높이 방향으로 설치되며, 상기 서셉터 상부의 플라즈마 생성영역을 제한하기 위해 이동 가능한 복수개의 상부 플라즈마 생성영역 제한부재; 및상기 진공 챔버 외부에 위치하는 제어장치;를 포함하고, 상기 플라즈마 생성영역 제한부재는 복수개의 슬랫(Slat)을 갖는 루버(louver) 또는 복수개의 홀(hole)을 갖는 메쉬(mesh) 형태이며,상기 제어장치는 상기 슬랫의 각도 또는 상기 홀의 크기를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 상부 플라즈마 발생영역 제한부재는 상기 진공 챔버의 일 내측면과 중심부 사이에서 직선이동 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 상부 플라즈마 생성영역 제한부재는 상기 진공 챔버의 상부면과 가까운 한 변을 중심으로 회전이동 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 서셉터 하부의 플라즈마 생성을 제한하기 위해 상기 서셉터 하부에 위치하는 하부 플라즈마 생성영역 제한부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제4항에 있어서,상기 하부 플라즈마 생성영역 제한부재는 상기 서셉터에 가까워지거나 멀어지는 방향으로 이동 가능한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 상부 플라즈마 생성영역 제한부재는 상기 서셉터의 일측 및 타측에 각각 위치하여 마주보는 한 쌍의 제1 상부 플라즈마 생성영역 제한부재로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제6항에 있어서,상기 플라즈마 발생장치는 상기 서셉터 상부의 플라즈마 생성영역을 4면에서 둘러싸는 형태를 취하도록 마주보며 위치하는 한 쌍의 제2 상부 플라즈마 생성영역 제한부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제7항에 있어서,상기 제2 상부 플라즈마 생성영역 제한부재의 폭은 상기 제1 상부 플라즈마 생성영역 제한부재의 폭 보다 좁은 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 생성영역 제한부재는 상기 진공 챔버의 내측면과 상기 플라즈마 생성영역 제한부재 사이에 연결되며, 상기 제어장치의 신호에 의해 길이 조절이 가능한 연결부재에 의해 이동되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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