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본체;상기 본체의 내측에 구비되어 입자가 가속되는 공간을 형성하는 챔버;상기 챔버와 인접한 위치에 배치되어 상기 챔버 내부를 진행하는 입자를 가속시키기 위한 자기장을 형성하는 자력부;상기 챔버의 내측에 설치되는 상부 전극판 및 하부 전극판을 포함하며, 상기 상부 전극판 및 상기 하부 전극판 사이로 상기 입자가 통과하도록 설치되는 전극 조립체;및상기 상부 전극판 및 상기 하부 전극판은 각각 바 형상으로 구성되는 프레임 및 상기 프레임에 설치되는 복수개의 전극모듈을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제1항에 있어서,상기 전극 조립체는 상기 챔버의 내부에서 상기 입자가 진행하는 궤적의 반경 방향으로 설치되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제3항에 있어서,상기 전극 조립체는 상기 챔버의 내측에 복수개로 구비되며, 상기 복수개의 전극 조립체는 상기 챔버의 중심을 기준으로 동일한 각도로 이격되어 설치되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제3항에 있어서,상기 상부 전극판과 상기 하부 전극판은 각각의 복수개의 전극 모듈이 상기 입자가 진행하는 궤적의 반경 방향을 따라 배치되며, 상기 상부 전극판의 전극 모듈과 상기 하부 전극판의 전극 모듈은 각각 대응되는 위치에서 대향되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제5항에 있어서,상기 전극 조립체는 상기 복수개의 전극 모듈을 이용하여 상기 입자가 통과하면서 발생되는 전기장의 변화를 감지하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제6항에 있어서,상기 상부 전극판과 상기 하부 전극판에 각각 대향되도록 배치되는 한 쌍의 전극 모듈로부터 각각 독립적으로 상기 전기장의 변화를 감지하여, 상기 입자의 궤적을 검출하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제5항에 있어서,상기 전극 조립체는 상기 상부 전극판 및 상기 하부 전극판을 대전시켜 상기 전극 조립체를 통과하는 상기 입자의 진폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제8항에 있어서,상기 상부 전극판 및 상기 하부 전극판은 각각 음극을 형성하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제9항에 있어서,상기 전극 조립체는 상기 상부 전극판과 상기 하부 전극판 사이에 전기장을 형성하되, 기 설정된 주기로 전기장의 방향이 전환되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제10항에 있어서,상기 전기장의 방향이 전환되는 주기는 상기 입자의 진동 주기와 일치하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제5항에 있어서,상기 전극 조립체는 상기 전극 조립체를 통과하는 입자에 의해 유도되는 전기장의 변화를 감지하여 상기 입자의 궤적을 검출하는 제1 모드 및 상기 상부 전극판과 상기 하부 전극판을 대전시켜 이를 통과하는 상기 입자의 진폭을 조절하는 제2 모드로 동작하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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제5항에 있어서,상기 복수개의 전극 조립체 중 일부는 상기 전극 조립체를 통과하는 입자에 의해 유도되는 전기장의 변화를 감지하여 입자의 궤적을 검출하고, 상기 복수개의 전극 조립체 중 나머지는 상기 전극 조립체의 상기 상부 전극판과 상기 하부 전극판을 대전시켜 이를 통과하는 상기 입자의 진폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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