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고분자 나노섬유 기재를 플라즈마 처리하여 그 표면을 개질하는 방법으로, 플라즈마 처리는 고분자 나노섬유 기재 상에 양극 산화 알루미늄 템플릿을 정치한 상태에서 수행되는 것인 고분자 나노섬유 기재의 표면개질방법
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제 1 항에 있어서, 고분자 나노섬유 기재는 고분자 나노섬유 매트인 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 고분자 나노섬유 기재는 폴리카프로락톤(PCL), 폴리(락트산)(PLA), 폴리(글리콜산)(PGA) 및 폴리(락트산-co-글리콜산)(PLGA)으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 2 이상의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제 3 항에 있어서, 고분자 나노섬유 기재는 폴리카프로락톤(PCL)을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 플라즈마 처리는 저주파 산소 플라즈마 처리인 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 플라즈마 처리는 주파수 50 kHz, 전력 10 내지 30W, 산소 공급 속도 10 내지 15 sccm 및 압력 5
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제 1 항에 있어서, 양극 산화 알루미늄 템플릿은 평균 직경이 100 내지 800 nm인 구멍이 다수로 형성된 것을 특징으로 하는 방법
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개질된 표면을 갖는 고분자 나노섬유 매트로, 상기 개질된 표면은, a) 친수성기를 포함하는 나노크기의 패턴을 다수로 포함하고, b) 상기 친수성기는 고분자 나노섬유와 화학적으로 결합된 형태로 존재하며,c) 표면 거칠기에 있어서 Ra값이 650 내지 800 nm인 물성을 만족하는 것인, 고분자 나노섬유 매트
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제 8 항에 있어서, 고분자 나노섬유 매트는 폴리카프로락톤(PCL), 폴리(락트산)(PLA), 폴리(글리콜산)(PGA) 및 폴리(락트산-co-글리콜산)(PLGA)으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 2 이상의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 고분자 나노섬유 매트
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제 9 항에 있어서, 고분자 나노섬유 매트는 폴리카프로락톤(PCL)을 포함하는 것을 특징으로 고분자 나노섬유 매트
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 방법에 따라 얻어진 고분자 나노섬유 기재를 포함하는 조직재생용 세포담체
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제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항의 고분자 나노섬유 매트를 포함하는 조직재생용 세포담체
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