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외주면에 다수개의 홀을 가지는 원통형의 제1 튜브;외주면에 다수개의 홀을 가지며 상기 제1 튜브의 외주면을 둘러싸는 원통형의 제2 튜브; 및상기 제1 튜브에 권취되는 안테나;를 포함하며,상기 제1 튜브 내부에서 플라즈마를 발생시키고 상기 제1 튜브 및 제2 튜브의 다수개의 홀을 통하여 외부로 방출시키고, 상기 제1 튜브와 제2 튜브 중 적어도 어느 하나에는 상기 다수개의 홀의 크기를 조절할 수 있는 조절 부재;가 마련되는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 소스
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제 2항에 있어서, 상기 조절 부재는 제1 튜브에 마련되는 제1 조절 부재를 포함하고, 상기 제1 조절 부재는 상기 제1 튜브의 내경과 같은 크기의 외경을 가지며, 상기 제1 튜브의 다수개의 홀의 위치에 대응하는 위치에 동일한 크기의 다수개의 홀을 갖고 상기 제1 튜브의 내주면에 끼워지며, 상기 제1 조절 부재의 위치를 조절하여 상기 제1 튜브의 다수개의 홀의 크기를 조절하는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 소스
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제 2항에 있어서, 상기 조절 부재는 제2 튜브에 마련되는 제2 조절 부재를 포함하고, 상기 제2 조절 부재는 상기 제2 튜브의 내경과 같은 크기의 외경을 가지며, 상기 제2 튜브의 다수개의 홀의 위치에 대응하는 위치에 동일한 크기의 다수개의 홀을 갖고 상기 제2 튜브의 내주면에 끼워지며, 상기 제2 조절 부재의 위치를 조절하여 상기 제2 튜브의 다수개의 홀의 크기를 조절하는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 소스
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제2항에 있어서,상기 제1 튜브 및 제2 튜브는 페라이트(ferrite) 또는 쿼츠(quartz)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 소스
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제2항에 있어서,상기 안테나는 상기 제1 튜브의 길이 방향을 따라 소정 간격 이격되어 권취되는 복수 개의 안테나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유도 결합형 플라즈마 소스
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제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 유도 결합형 플라즈마 소스;스퍼터링 타겟이 놓여지는 캐소드; 및처리 기판;을 포함하며,상기 유도 결합형 플라즈마 소스에 의하여 플라즈마가 발생하는 영역과 상기 캐소드와 처리 기판 사이의 플라즈마가 발생하는 영역으로 구분되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
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제7항에 있어서,상기 스퍼터링 장치는 상기 유도 결합형 플라즈마 소스에 전력을 인가하는 제1 전력 공급원 및 상기 캐소드에 전력을 인가하는 제2 전력 공급원을 더 포함하며,상기 제1 및 제2 전력 공급원으로부터 인가되는 전력의 크기를 제어하여 상기 유도 결합형 플라즈마 소스에 의하여 발생되는 플라즈마와 상기 캐소드와 처리 기판 사이에서 발생하는 플라즈마의 에너지를 독립적으로 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
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