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금속 입자의 제조 방법으로서,니켈 이온을 포함하는 제1 용액에 금속 기판을 침지시켜서, 상기 금속 기판에 니켈 원소가 포함된 제1 재료로 된 덴드라이트(dendrite) 구조의 금속 입자를 형성하는 단계; 및상기 덴드라이트 구조의 금속 입자를 티탄 이온을 포함하는 제2 용액에 침지시켜서, 상기 금속 입자 표면의 적어도 일부에 티타늄 원소를 포함하는 제2 재료로 코팅하는 단계를 포함하는, 금속 입자 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 제1 용액은 구리 이온을 더 포함하고, 상기 제1 재료는 구리 원소를 더 포함하는, 금속 입자 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 제2 재료에 포함된 티타늄 원소는, 산화 티타늄 형태로 포함되어 있는, 금속 입자 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 제1 용액은 염화 니켈 및 황산 구리 용액을 포함하는, 금속 입자 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 제2 용액은 삼염화 티탄 용액을 포함하는, 금속 입자 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 금속 기판은 알루미늄으로 된, 금속 입자 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 제2 재료로 코팅된 금속 입자를 산소를 포함하는 대기중에서 열처리하는 단계를 더 포함하는, 금속 입자 제조 방법
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제17항에 있어서, 상기 열처리 단계는 400℃ 이상의 온도에서 행해지는, 금속 입자 제조 방법
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제17항에 있어서, 상기 열처리 단계에 의해서, 상기 제1 재료로 된 금속 입자가 산화되는, 금속 입자 제조 방법
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전기 장치에서,제11항 내지 제19항 중 어느 한 항의 제조 방법에 의해 제조된 금속 입자를 포함하는 전기 장치
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제20항에 있어서,상기 전기 장치는, 배터리인 전기 장치
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제20항에 있어서,상기 전기 장치는, 커패시터인 전기 장치
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