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빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제2섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 전기장 및 자기장을 형성하는 제2코일을 포함하는 제2판을 제공하는 단계; 상기 제2섹터와 상기 제2코일 사이에 배치되며 상기 제2섹터와 소정 거리로 이격되어 탈착가능하도록 설치된 챔버를 배치하는 단계; 및상기 챔버 설치시, 상기 챔버의 쏠림을 방지하는 단계를 포함하는 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법
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제1항에 있어서, 상기 제2섹터는 상호 이격된 부채꼴 형상의 복수의 힐과 상기 복수의 힐이 부착되지 않는 적어도 한 개이상의 밸리로 구성되는 포함하는 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법
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제2항에 있어서, 상기 챔버의 쏠림을 방지하는 단계는 상기 제2섹터의 복수의 힐 중 적어도 하나의 힐에 소정거리를 유지하여 상기 챔버의 쏠림을 방지하는 간격유지부를 설치하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법
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제1항에 있어서, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법은 챔버를 배치하는 단계 이전에 빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제1섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 전기장 및 자기장을 형성하는 제1코일을 포함하는 제1판을 제공하는 단계를 더 포함하는 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법
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제2항에 있어서, 상기 사이클로트론 전자석 시스템 제공방법은상기 제2판은 원통형 요크를 더 포함하고, 상기 원통형 요크는 원주부에 일정구간이 절결된 적어도 하나의 절결구간을 포함하고, 상기 챔버의 쏠림을 방지하는 단계 이후에 상기 챔버의 회전을 방지하는 단계를 더 포함하되,상기 상기 챔버의 회전을 방지하는 단계는 상기 제2 섹터의 복수의 밸리 중 적어도 하나의 밸리에 끼워지는 끼움부재를 설치하는 단계와 적어도 하나의 상기 끼움부재와 결합되고 상기 챔버를 관통하여, 상기 절결구간의 내부 또는 상기 제2판 요크 외부까지 연장된 연결대를 설치하는 단계를 포함하는 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법
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제5항에 있어서, 상기 끼움부재는 서로 마주보는 제1끼움부재 및 제2끼움부재를 포함하고, 상기 연결대는 상기 제1끼움부재와 상기 제2끼움부재에 각각 결합되는 제1연결대와 제2연결대를 포함하여, 상기 챔버의 회전을 방지하고,상기 끼움부재는 상기 제1끼움부재와 상기 제2끼움부재 사이에 제3끼움부재를 더 포함하고, 상기 연결대는 상기 제3끼움부재에 결합되는 제3연결대를 포함하여, 상기 챔버의 쏠림을 방지하는 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법
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제1항에 있어서, 상기 챔버는 상면 및 하면에 오링이 설치되는 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법
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