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진공상태로 마련되는 검사구역;내부에 유입된 피측정 입자를 집속된 상태로 상기 검사구역 내부로 공급시키는 입자 공급부;상기 피측정 입자의 이동경로 상에 마련되며, 상기 집속된 피측정 입자의 이동시간을 측정하여 상기 집속된 피측정 입자의 형상을 측정하는 형상 측정부;상기 검사구역 내부의 상기 집속된 피측정 입자 측으로 상기 집속된 피측정 입자의 이동경로와 교차되도록 검사광을 조사하는 광원부;상기 검사구역을 통과한 검사광을 이용하여 상기 피측정 입자의 정보를 측정하는 측정부;를 포함하는 입자 측정장치
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제1항에 있어서,상기 형상 측정부는,복수 개로 마련되어 상호 소정간격 이격되며, 상기 집속된 피측정 입자 측으로 각각 1차 측정광을 조사하는 1차 측정광 조사부; 상기 1차 측정광 조사부와 대응되도록 마련되어 상기 1차 측정광을 수광하는 1차 측정광 수광부;를 포함하며, 상기 1차 측정광을 이용하여 상기 집속된 피측정 입자의 이동시간을 측정하는 입자 측정장치
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 위치 측정부와 상기 검사구역 사이에 마련되며, 상기 피측정 입자 측으로 2차 측정광을 조사하여 상기 검사구역 내에서의 상기 집속된 피측정 입자의 위치를 측정하는 위치 측정부;를 더 포함하는 입자 측정장치
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제3항에 있어서,상기 위치 측정부는,상기 피측정 입자 측으로 2차 측정광을 조사하는 2차 측정광 조사부; 상기 2차 측정광을 수광하여 상기 집속된 피측정 입자의 위치를 측정하는 2차 측정광 수광부;를 포함하는 입자 측정장치
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제4항에 있어서,상기 위치 측정부로부터 제공받은 상기 집속지점의 위치 정보에 따라 상기 광원부의 위치를 이동시키는 제어부;를 더 포함하는 입자 측정장치
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제5항에 있어서,상기 2차 측정광 조사부는 고정된 위치 상에서 소정의 조사면적을 갖도록 2차 측정광을 조사하며,상기 2차 측정광 수광부는 상기 피측정 입자에 의하여 차단되는 2차 측정광으로부터 상기 집속된 피측정 입자의 위치를 측정하는 입자 측정 장치
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제6항에 있어서,상기 2차 측정광 조사부는 복수 개가 마련되어 상호 교차되도록 각각 2차 측정광을 조사하며,상기 2차 측정광 수광부는 상기 2차 측정광 수광부에 대응되는 개수로 마련되어 각각 상기 2차 측정광을 수광하며, 상기 피측정 입자에 의하여 차단되는 2차 측정광으로부터 상기 집속 지점의 위치를 측정하는 입자 측정 장치
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