| 1 |
1
올리고머 100중량부에 대하여 0
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 올리고머가 300 내지 10,000의 중량 평균 분자량을 갖는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 올리고머 조성물의 틱소트로피 지수가 1
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,기계적 에너지에 의해 점도가 낮아지는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,10 (1/s)의 전단속도에서 50 Pa·S 이하의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 올리고머가 축합형 올리고머, 또는 부가형 올리고머인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 7 |
7
제6항에 있어서,상기 부가형 올리고머가 그룹 전이 중합법, 원자 전이 라디칼 중합법, 가역적 첨가-분절 연쇄 전이 중합법 또는 니트록시드-매개 중합법에 의해 얻어진 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 올리고머가 2개 이상의 관능기를 포함하는 반응성 또는 비반응성 올리고머인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 올리고머가 비닐계 올리고머, 에테르계 올리고머, 에스테르계 올리고머, 및 우레탄계 올리고머 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 올리고머가 아크릴아미도메틸 치환 셀룰로오스 에스테르 올리고머, 방향족 폴리에테르 우레탄 메타크릴레이트 올리고머, 방향족 폴리에테르 우레탄 디메타크릴레이트 올리고머, 변성 폴리에스테르 아크릴레이트 올리고머, 3관능성 아크릴레이트 올리고머, 방향족 우레탄 헥사아크릴레이트 올리고머, 지방족 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 6관능성 방향족 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 불화 아크릴레이트 올리고머, 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 헥산디올 디아크릴레이트와 블렌딩된 지방족 폴리에스테르계 우레탄 디아크릴레이트 올리고머, 및 아세트산 2-(2-아크릴로일옥시-에톡시메틸)-2-아크릴로일옥시메틸-부틸 에스테르로 희석한 에폭시 아크릴레이트 올리고머 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 틱소트로피화제가 비극성 용매용 입자형 물질, 비극성 용매용 수지형 물질, 또는 수계 시스템용 물질인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 12 |
12
제1항에 있어서,상기 틱소트로피화제의 함량이 상기 올리고머 100중량부에 대하여 1 내지 50중량부인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 13 |
13
제1항에 있어서,상기 틱소트로피화제가 친수성 흄드 실리카, 고밀도 친수성 흄드 실리카, 유기 변성 스멕타이트, 활성화 스멕타이트 클레이, 고표면 흄드 실리카, 친수성 합성 비정질-화성 흄드 실리카, 테트라알킬 암모늄 벤토나이트, 칼슘 벤토나이트 클레이, 및 메틸 벤질 4급/벤토나이트 클레이 복합물 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 14 |
14
제1항에 있어서,상기 틱소트로피화제가 변성 우레아 용액, UCD 2106N, 오버베이스드 칼슘 설포네이트 콤플렉스, 100% 활성 미분화 캐스터 왁스 레올로지 개질제, 아미드-변성 수소화 캐스터 오일 레올로지 개질제, 수소화 캐스터 오일, 크실렌에 분산된 산화 폴리에틸렌, 미분화 수소화 캐스터 오일, 고성능 미분화 아미드 왁스, 디메틸설폭사이드에 공급된 액상 레올로지 개질제, 및 폴리히드록시카르복실산 아미드 용액을 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 15 |
15
제1항에 있어서,상기 틱소트로피화제가 수용성 비이온성 폴리우레탄, PATCHAM (FZC), 아크릴계 코폴리머계 수에멀젼, 비이온성 저점도 등급의 에틸 히드록시에틸 셀룰로오스, 크산탄검, 소수성으로 개질된 알칼리-용해성 에멀젼, 카르복실기 함유 아크릴계 코폴리머의 수분산액, 변성 에틸렌-비닐-아세테이트 코폴리머 왁스의 비이온성 에멀젼, 크산탄 검, 및 폴리우레탄 폴리머 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 16 |
16
제1항에 있어서,상기 올리고머 100중량부에 대하여 0
|
| 17 |
17
제1항에 있어서,상기 올리고머 100중량부에 대하여 0
|
| 18 |
18
제1항에 있어서,광중합 개시제 혹은 열중합개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 19 |
19
제18항에 있어서,상기 광중합 개시제가 벤조인에테르류, 아세토페논류, 및 벤질케탈류 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물
|
| 20 |
20
삭제
|
| 21 |
21
제1항에 있어서,상기 올리고머 100중량부에 대하여 0
|
| 22 |
22
제1항 내지 제19항 및 제21항 중 어느 한 항에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물에 기계적 에너지를 가하여 점도를 저하시키는 단계;상기 올리고머 조성물을 3D 프린터에 장착된 압출 헤드의 노즐을 통해 토출시켜 입체 형상의 고점도 적층 구조체를 형성하는 단계; 및상기 적층 구조체를 경화 또는 중합시키는 단계;를 포함하는 입체 조형물의 제조방법
|
| 23 |
23
제1항 내지 제19항 및 제21항 중 어느 한 항에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물로부터 얻어진 입체 조형물
|
