| 1 |
1
다공성 기재, 및상기 다공성 기재 상의 무기산화물층을 포함하며, 상기 무기산화물층은 매크로기공을 갖는 무기산화물 입자를 포함하는 것인 세퍼레이터
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 무기산화물층은 메조기공과 매크로기공을 동시에 갖는 무기산화물 입자를 포함하는 것인 세퍼레이터
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 메조기공은 1 내지 40nm의 평균 기공 크기를 갖는 것인 세퍼레이터
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 메조기공은 2 내지 20nm의 평균 기공 크기를 갖는 것인 세퍼레이터
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 매크로기공은 100 내지 400nm의 평균 기공크기를 갖는 것인 세퍼레이터
|
| 6 |
6
제5항에 있어서, 상기 매크로기공은 200 내지 300nm의 평균 기공크기를 갖는 것인 세퍼레이터
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 다공성 기재는 폴리올레핀계 중합체인 세퍼레이터
|
| 8 |
8
제7항에 있어서, 상기 폴리올레핀계 중합체는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 또는 이들의 혼합물인 세퍼레이터
|
| 9 |
9
제1항에 있어서, 상기 다공성 기재는 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르, 폴리아세탈, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리페닐렌설파이드 및 폴리에틸렌나프탈렌으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 것인 세퍼레이터
|
| 10 |
10
제1항에 있어서, 상기 다공성 기재는 5 내지 30 μm의 두께인 세퍼레이터
|
| 11 |
11
제1항에 있어서, 상기 무기산화물층은 1 내지 10 μm의 두께인 것인 세퍼레이터
|
| 12 |
12
제1항에 있어서, 상기 무기산화물층의 BET측정결과에 따른 비표면적은 450 내지 600 m2/g인 세퍼레이터
|
| 13 |
13
제1항에 있어서, 상기 무기산화물층은, SiO2, Al2O3, CeO2, MgO, NiO, CaO, ZnO, ZrO2, Y2O3, BaTiO3 및 TiO2 로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 무기산화물 입자를 포함하는 것인 세퍼레이터
|
| 14 |
14
제1항에 있어서, 상기 무기산화물층은, 폴리비닐리덴디플루오라이드(PVDF), PVDF-헥사플루오로프로필렌(HFP) 공중합체 및 스티렌-부타디엔-고무(SBR) 중에서 선택되는 1종 이상의 바인더 수지를 포함하는 것인 세퍼레이터
|
| 15 |
15
다공성 기재 상에, 매크로기공을 포함하는 무기산화물 입자와 바인더 수지의 혼합액을 도포하는 단계를 포함하는, 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 세퍼레이터의 제조방법
|
| 16 |
16
제15항에 있어서, 상기 무기산화물 입자는 메조기공과 매크로기공을 동시에 갖는 무기산화물 입자인 세퍼레이터의 제조방법
|
| 17 |
17
제15항에 있어서, 상기 도포 단계는 딥 코팅(dip coating) 방법을 이용하여 수행되는 것인 세퍼레이터의 제조방법
|
| 18 |
18
제15항에 있어서, 상기 바인더 수지는 폴리비닐리덴디플루오라이드(PVDF), PVDF-헥사플루오로프로필렌(HFP) 공중합체 또는 스티렌-부타디엔-고무(SBR)를 포함하는 것인 세퍼레이터의 제조방법,
|
| 19 |
19
캐소드, 애노드, 상기 캐소드와 애노드 사이에 위치하는 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 세퍼레이터, 및 전해질을 포함하는 전기화학소자
|
| 20 |
20
제19항에 있어서, 상기 전기화학소자는 리튬 2차전지인 전기화학소자
|
