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미세 구조물 제조방법

  • 기술번호 : KST2015144509
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 구조물 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 초소형 정밀기계(Micro Electro Mechanical System, MEMS)의 구조물 제조방법에 있어서, 실리콘 기판위에 희생층 물질을 도포하여 패터닝(patterning)하고, 상기 희생층 물질과 동일한 물질의 포스트를 형성하는 공정을 포함하는 제조방법을 제공함으로써, 미세 구조물 제조 시 점착을 미연에 방지하며, 1번의 공정만을 추가하여 간편하게 포스트를 제조할 수 있고, 희생층 물질로 포토레지스트를 사용하기 때문에 원하는 형태의 희생층을 쉽게 제작할 수 있는 등의 효과가 있다. 미세 구조물, 초소형 정밀기계(Micro Electro Mechanical System, MEMS), 포스트(post), 포토레지스트
Int. CL B81C 1/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020070011531 (2007.02.05)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-0865911-0000 (2008.10.23)
공개번호/일자 10-2008-0073034 (2008.08.08) 문서열기
공고번호/일자 (20081029) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.02.05)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송준태 대한민국 경기 수원시 장안구
2 황현석 대한민국 경기 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인정직과특허 대한민국 서울 강남구 선릉로 ***(논현동, 썬라이더빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2007-0106220-35
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.08.10 수리 (Accepted) 4-1-2007-0015278-18
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.12.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0868157-17
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.12.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2008-0003530-34
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.03.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0170776-13
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0377267-93
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0463994-18
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.06.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0463995-53
10 등록결정서
Decision to grant
2008.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0534652-09
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090770-53
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.20 수리 (Accepted) 4-1-2012-5131828-19
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2012-5137236-29
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
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번호 청구항
1 1
미세 구조물을 제조하기 위해 희생층을 이용하는 미세 구조물 제조 방법에 있어서, 실리콘 기판위에 희생층 물질인 포토레지스트를 도포하여 패터닝(patterning)하고, 상기 희생층 물질과 동일한 물질의 포스트를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조물 제조방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 희생층 패턴에 포스트 패턴 마스크를 노광시킨 후, 직접 희생층 내부에 포스트를 형성하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조물 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 희생층을 현상액을 이용한 습식으로 제거하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조물 제조방법
5 5
삭제
6 6
미세 부유 구조물을 제조하는 방법에 있어서,실리콘 기판 위에 포토레지스트 물질의 희생층을 적층하는 단계, 상기 희생층을 패터닝하는 단계,상기 패터닝된 희생층에 자외선(UV)을 조사하여 상기 희생층과 동일한 물질로 이루어진 임시 포스트를 형성하는 단계, 상기 희생층을 갖는 상기 실리콘 기판의 전면 또는 상기 패터닝된 희생층의 일측벽을 노출하는 알루미늄 구조층을 증착하는 단계, 상기 희생층을 습식에 의해 제거하는 단계 및 상기 임시 포스트를 건식에 의해 제거하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 미세 구조물 제조방법
7 7
삭제
8 8
제6항에 있어서, 상기 희생층은 현상액을 이용한 습식으로 제거하는 것을 특징으로 하는 미세 구조물 제조방법
9 9
제6항에 있어서, 상기 임시 포스트는 산소 플라즈마 애셔(asher)를 이용한 건식으로 제거하는 것을 특징으로 하는 미세 구조물 제조방법
10 10
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11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
삭제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20080200029 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2008200029 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.