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마이크로렌즈 제조방법

  • 기술번호 : KST2015144927
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 X-선 사진식각(X-ray lithography)기술을 이용한 마이크로렌즈 제조방법을 개시한다.본 발명은 기판 위에 PMMA 또는 감광막을 일정 두께로 형성시키는 단계와, X-선 마스크와 기판을 정렬하는 단계와, X-선 마스크를 이용해 기판을 노광하고 현상액을 이용하여 노광된 PMMA 또는 감광막을 제거하여 단계와, X-선 마스크와 기판의 회전축을 정렬하는 단계와, X-선 마스크는 고정하고 기판은 회전하면서 노광하여 X-선 마스크의 흡수체 형상 및 회전축의 위치에 따라 기하학적 형상으로 노광하는 단계와, 현상액을 이용하여 노광된 PMMA 또는 감광막을 제거하여 기하학적 형상으로 현상하는 단계로 이루어져 기존의 기계가공방법이나 UV 사진식각공정으로 제작하기 어려운 고정밀의 마이크로렌즈를 손쉽게 제작할 수 있으며, 사출성형용 금형을 제작할 수 있어 마이크로렌즈의 대량 생산에 유리하다.
Int. CL B29D 11/00 (2006.01)
CPC B29D 11/00365(2013.01) B29D 11/00365(2013.01) B29D 11/00365(2013.01) B29D 11/00365(2013.01)
출원번호/일자 1019990027428 (1999.07.08)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-0321134-0000 (2002.01.04)
공개번호/일자 10-2001-0009173 (2001.02.05) 문서열기
공고번호/일자 (20020318) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.07.08)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정석원 대한민국 충청남도공주시
2 박광범 대한민국 경기도평택시송탄지역
3 김인회 대한민국 경기도용인
4 박효덕 대한민국 경기도평택시
5 문현찬 대한민국 경기도군포시
6 이보나 대한민국 경기도오산
7 김건년 대한민국 경기도평택시송탄지역
8 박순섭 대한민국 경기도평택시송탄지역

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))
2 김원준 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전자부품연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1999.07.08 수리 (Accepted) 1-1-1999-0076211-96
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2001.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0131370-80
3 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2001.07.25 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2001-0184509-13
4 의견서
Written Opinion		 2001.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2001-0184510-60
5 등록결정서
Decision to grant		 2001.11.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0315028-40
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2005-5036534-08
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

X-선 사진식각(X-ray lithography)기술을 이용한 마이크로렌즈 제조방법에 있어서,

기판 위에 PMMA 또는 감광막을 일정 두께로 형성시키는 단계와;

X-선 마스크와 상기 기판을 정렬하는 단계와;

상기 X-선 마스크를 이용해 상기 기판을 노광하고 현상액을 이용하여 노광된 PMMA 또는 감광막을 제거하여 단계와;

상기 X-선 마스크와 상기 기판의 회전축을 정렬하는 단계와;

상기 X-선 마스크는 고정하고 상기 기판은 회전하면서 노광하여 상기 X-선 마스크의 흡수체 형상 및 회전축의 위치에 따라 기하학적 형상으로 노광하는 단계와;

현상액을 이용하여 노광된 PMMA 또는 감광막을 제거하여 기하학적 형상으로 현상하는 단계를 포함하는 마이크로렌즈 제조방법

2 2

삭제
3 3

제 1 항에 있어서, 상기 기판의 회전축이 기판 위로 h1 만큼 떨어진 지점에 형성되어 볼렌즈(Ball lens) 형상의 마이크로렌즈를 형성할 수 있는 마이크로렌즈 제조방법

4 4

제 1 항에 있어서, 상기 기판 위로 h1 만큼 떨어진 지점에 회전축이 설정되며, 비구면 형상의 흡수체를 구비한 상기 X-선 마스크의 패턴이 상기 기판 회전축에 직교하는 방향으로 놓인 상태로 노광하여 상기 기판 위에 세워진 비구면 렌즈(aspheric lens)를 형성할 수 있는 마이크로렌즈 제조방법

5 5

제 1 항에 있어서, 상기 기판이 비구면 형상의 흡수체를 구비한 상기 X-선 마스크와 수직한 상태에서 360。 회전시키면서 노광하여 상기 기판 위에 누워있는 비구면 렌즈(aspheric lens)를 형성할 수 있는 마이크로렌즈 제조방법

6 6

제 1 항에 있어서, 상기 X-선 마스크의 흡수체를 사각 형상으로 형성하고 기판을 회전시키면서 노광하여 반원통형 렌즈를 형성할 수 있는 마이크로렌즈 제조방법

7 7

제 1 항에 있어서, 상기 X-선 마스크의 흡수체를 타원 형상으로 형성하고 기판을 회전시키면서 노광하여 계란형 렌즈를 형성할 수 있는 마이크로렌즈 제조방법

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1 US6558878 US 미국 DOCDBFAMILY
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