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Ｘ-선 마스크 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015145044
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 X-선 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것으로, X-선 마스크의 기판으로 대략 300㎛정도의 BN시트를 사용함으로써, X-선 마스크에서 윈도우(window)로써 작용하는 면적을 획기적으로 넓혀 대면적의 윈도우가 요구되는 X-선 사진 식각 공정 분야에서도 사용이 가능할 뿐만 아니라, 노광 면적의 한계 때문에 응용할 수 없었던 디스플레이 분야, 광통신 분야, 전자 분야, 기계 가공 분야 등에서 사용할 수 있게 된다.대면적, X-선, 마스크, 기판, BN시트
Int. CL G03F 1/22 (2006.01)
CPC G03F 1/146(2013.01) G03F 1/146(2013.01) G03F 1/146(2013.01) G03F 1/146(2013.01) G03F 1/146(2013.01)
출원번호/일자 1020030004367 (2003.01.22)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2004-0067323 (2004.07.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.01.22)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정석원 대한민국 경기도오산시
2 조진우 대한민국 경기도성남시분당구
3 박순섭 대한민국 경기도평택시
4 박준식 대한민국 경기도군포시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박창남 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로**길 **, *층 (서초동, 명지빌딩)(나이스국제특허법률사무소)
2 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
3 장재용 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **-*, *층(역삼동, 대명빌딩)(휴피아국제특허법률사무소)
4 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
5 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
6 조담 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2003.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2003-0023169-86
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2004.09.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.10.14 수리 (Accepted) 9-1-2004-0059535-69
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2005-5036534-08
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2005.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0253022-83
6 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 2005.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2005-0409369-22
7 의견서
Written Opinion		 2005.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2005-0409367-31
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2005.09.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0463374-53
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
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번호 청구항
1 1

BN 시트(sheet) 상부 전면에 도금 기저막(plating base)을 증착하는 제 1 단계;

상기 제 1 단계에 따라 증착한 도금 기저막(plating base) 상부 전면에 포토레지스트를 도포하고 패터닝하여 상기 도금 기저막의 일부를 노출하는 제 2 단계;

상기 제 2 단계에 따라 노출된 도금 기저막의 상면에 X-선 흡수체를 형성하는 제 3 단계;

상기 도포되어 패터닝된 포토 레지스트를 제거하여 상기 제거한 포토 레지스트 하부에 위치한 도금 기저막을 노출시키는 제 4 단계;

상기 제 4 단계에 따라 노출시킨 도금 기저막을 제거하는 제 5 단계로 이루어지는, X-선 마스크 제조 방법

2 2

제 1 항에 있어서, 상기 제 1 단계 이전에;

상기 BN 시트의 표면을 연마하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, X-선 마스크 제조 방법

3 3

제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 BN 시트는;

두께가 300㎛ 정도인 것을 특징으로 하는, X-선 마스크 제조 방법

4 4

제 1 항의 방법으로 제조된 X-선 마스크

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.