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탐침형 정보저장장치의 기록매체 및 기록/재생/소거 방법

  • 기술번호 : KST2015145239
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탐침형 정보저장장치의 기록매체 및 기록/재생/소거 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 상전이 박막 상에 금속-절연체 상전이 박막을 추가로 증착하여 기록밀도를 현저히 높일 수 있는 고밀도의 탐침형 정보저장장치의 기록매체를 제조하는 것에 관한 것이다.본 발명의 탐침형 정보저장장치의 기록매체는 상전이 박막을 이용하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체에 있어서, 실리콘 기판; 상기 실리콘 기판 상에 위치하는 하부전극; 상기 하부전극 상에 위치하고 결정질 상태인 상전이 박막 및 상기 상전이 박막 상에 위치하는 금속-절연체 상전이 박막으로 구성됨에 기술적 특징이 있다.따라서, 본 발명의 탐침형 정보저장장치의 기록매체 및 기록/재생/소거 방법은 상전이에 의하 저항치의 변화를 이용하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체를 제조함에 있어 제1 상전이 박막 상에 제2 상전이 박막을 추가로 증착함으로써 기록밀도를 현저히 높일 수 있는 장점이 있고, 테라비트급 탐침형 정보저장장치에 사용이 가능하며 PRAM 소자에 응용할 수 있는 효과가 있다.상전이 박막, 기록매체, 정보저장, 기록, 재생, 소거
Int. CL G11B 7/004 (2013.01) G11B 7/2433 (2013.01)
CPC G11B 9/1409(2013.01)G11B 9/1409(2013.01)
출원번호/일자 1020050059519 (2005.07.04)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-0715123-0000 (2007.04.30)
공개번호/일자 10-2007-0004158 (2007.01.09) 문서열기
공고번호/일자 (20070510) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.07.04)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이철승 대한민국 경기 성남시 분당구
2 신진국 대한민국 서울 강남구
3 서문석 대한민국 경기 안양시 동안구
4 김성현 대한민국 인천 계양구
5 최영진 대한민국 경기 성남시 분당구
6 이경일 대한민국 서울 양천구
7 조진우 대한민국 경기 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서천석 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로**길 **, *층 (서초동, 서초다우빌딩)(특허법인세하)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전자부품연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2005-0359870-89
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.07.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.08.16 수리 (Accepted) 9-1-2006-0055407-10
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0498741-50
5 의견서
Written Opinion
2006.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2006-0792991-29
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.10.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0792973-18
7 등록결정서
Decision to grant
2007.02.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0092413-13
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
상전이 박막을 이용하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체에 있어서,실리콘 기판;상기 실리콘 기판 상에 위치하는 하부전극;상기 하부전극 상에 위치하고 결정질 상태인 상전이 박막; 및상기 상전이 박막 상에 위치하여 비정질 상태로 있다가 일정 온도 이상이 되면 순간적으로 결정질 상태로 되었다가 인가전압이 없어지면 비정질 상태가 되는 금속-절연체 상전이 박막을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체
2 2
제 1항에 있어서,상기 하부전극은 Pt, Au 및 비정질 탄소 박막 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체
3 3
제 2항에 있어서,상기 비정질 탄소 박막은 W의 함유량이 5 ~ 15at
4 4
제 1항에 있어서,상기 상전이 박막은 Ge-Sb-Te 계열 및 Ag-In-Sb-Te 계열의 박막 중 어느하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체
5 5
제 1항에 있어서,상기 상전이 박막은 10 ~ 20nm의 두께인 것을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체
6 6
제 1항에 있어서,상기 일정 온도는 60℃인 것을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체
7 7
제 1항에 있어서,상기 금속-절연체 상전이 박막은 VO2인 것을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체
8 8
실리콘 기판; 상기 실리콘 기판 상에 위치하는 하부전극; 상기 하부전극 상에 위치하고 결정질 상태인 상전이 박막 및 상기 상전이 박막 상에 위치하여 비정질 상태로 있다가 일정 온도 이상이 되면 순간적으로 결정질 상태로 되었다가 인가전압이 없어지면 비정질 상태가 되는 금속-절연체 상전이 박막을 포함하는 기록매체와 상기 기록매체에 데이터를 기록하고 재생하는데 사용되는 탐침을 구비하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 방법에 있어서,(a) 인가 펄스전압이 인가된 상태에서 상기 탐침을 금속-절연체 상전이 박막의 표면에 접촉시키는 단계;(b) 상기 금속-절연체 상전이 박막을 결정질 상태로 변환하는 단계; 및(c) 상기 결정질 상태로 변환한 금속-절연체 상전이 박막을 통과한 전류가 상전이 박막을 비정질화하여 기록하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 방법
9 9
제 8항에 있어서,상기 (a) 단계는 부하전력을 1 ~ 10nN, 인가 펄스전압을 6 ~ 8V, 전압 인가시간은 100nsec 이하로 하는 것을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 방법
10 10
실리콘 기판; 상기 실리콘 기판 상에 위치하는 하부전극; 상기 하부전극 상에 위치하고 결정질 상태인 상전이 박막 및 상기 상전이 박막 상에 위치하여 비정질 상태로 있다가 일정 온도 이상이 되면 순간적으로 결정질 상태로 되었다가 인가전압이 없어지면 비정질 상태가 되는 금속-절연체 상전이 박막을 포함하는 기록매체와 상기 기록매체에 데이터를 기록하고 재생하는데 사용되는 탐침을 구비하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 재생 방법에 있어서,(a) 인가 펄스전압이 인가된 상태에서 상기 탐침을 금속-절연체 상전이 박막의 표면에 접촉시키는 단계; 및(b) 상기 금속-절연체 상전이 박막이 결정질화하여 정보를 재생하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 재생 방법
11 11
제 10항에 있어서,상기 (a) 단계는 부하전력을 1 ~ 10nN, 인가 펄스전압을 1 ~ 2V로 하는 것을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 재생 방법
12 12
실리콘 기판; 상기 실리콘 기판 상에 위치하는 하부전극; 상기 하부전극 상에 위치하고 결정질 상태인 상전이 박막 및 상기 상전이 박막 상에 위치하여 비정질 상태로 있다가 일정 온도 이상이 되면 순간적으로 결정질 상태로 되었다가 인가전압이 없어지면 비정질 상태가 되는 금속-절연체 상전이 박막을 포함하는 기록매체와 상기 기록매체에 데이터를 기록하고 재생하는데 사용되는 탐침을 구비하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 소거 방법에 있어서,(a) 기록매체에 기록된 데이터 비트 부위에 인가 펄스전압을 인가하는 단계; 및(b) 상기 탐침을 금속-절연체 상전이 박막의 표면에 접촉시켜 정보를 제거하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 소거 방법
13 13
제 12항에 있어서,상기 부하전력을 1 ~ 10nN, 인가 펄스전압을 5 ~ 6V, 전압 인가시간은 200 ~ 500nsec 이하로 하는 것을 특징으로 하는 탐침형 정보저장장치의 기록매체 기록 소거 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.