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기판의 두께 편차의 기울기 방향에 수직인 방향으로 형성된 복수의 광도파로; 및
상기 복수의 광도파로 중 일부 또는 전부의 표면에 형성되는 굴절률 제어 박막층
을 포함하는 광파장 변환 소자
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제 1 항에 있어서,
상기 굴절률 제어 박막층은 상기 기판의 두께에 따라 둘 이상의 영역으로 나뉘고, 상기 각 영역의 상기 굴절률 제어 박막층을 이루는 물질이 각각 다른 것을 특징으로 하는 광파장 변환 소자
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제 2 항에 있어서, 상기 굴절률 제어 박막층은,
상기 기판의 두께 편차의 기울기의 아래 방향으로 점차 저굴절률 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 광파장 변환 소자
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제 2 항에 있어서,
상기 영역의 수는 상기 기판의 두께 편차의 기울기가 커질수록 많아지는 것을 특징으로 하는 광파장 변환 소자
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5
광파장 변환 소자를 형성하기 위한 기판을 준비하는 기판 준비 단계;
상기 기판의 두께를 측정하여 두께 편차의 기울기 및 방향을 결정하는 두께 측정 단계;
상기 기판에 분극반전영역을 형성하는 분극반전영역 형성 단계; 및
상기 두께 편차의 기울기 방향에 대해 수직으로 적어도 하나 이상의 광도파로를 형성하는 광도파로 형성 단계
를 포함하는 광파장 변환 소자 제조 방법
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6
제 5 항에 있어서, 상기 광도파로는 복수이고, 상기 광도파로 형성 단계 이후에,
상기 광도파로 중 일부 또는 전부의 표면에 굴절률 제어 박막층을 형성하는 박막층 형성 단계
를 더 포함하는 광파장 변환 소자 제조 방법
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7
제 6 항에 있어서, 상기 박막층 형성 단계에서,
상기 굴절률 제어 박막층은 상기 기판의 두께에 따라 둘 이상의 영역으로 나뉘고, 상기 각 영역의 상기 굴절률 제어 박막층을 이루는 물질이 각각 다르도록 형성되는 것을 특징으로 하는 광파장 변환 소자 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 박막층 형성 단계는,
상기 굴절률 제어 박막층의 각 영역을 위한 각각의 마스크를 사용하여 상기 각 영역을 순차적으로 형성하는 것을 특징으로 하는 광파장 변환 소자 제조 방법
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