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유기 이엘용 새도우 마스크의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015145710
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘 기판 위에 고밀도 감광막을 도포하고 고밀도 감광막을 음극 패턴이 형성되어 있는 크롬마스크를 사용하여 노광하고 현상하여 감광막 패턴을 형성한다. 다음, 감광막 패턴이 형성되어 있는 실리콘 기판 위에 도금을 통하여 니켈층을 형성하고, 니켈층을 연마하여 감광막 패턴을 노출시킨다. 다음, 감광막 패턴을 제거하고, 마지막으로 실리콘 기판을 식각하여 제거함으로써, 미세한 음극 패턴을 형성할 수 있는 유기 EL용 새도우 마스크를 완성한다. 새도우마스크, 감광막패턴, 미세패턴, 습식식각
Int. CL H01J 9/02 (2006.01)
CPC H01L 51/0011(2013.01) H01L 51/0011(2013.01)
출원번호/일자 1020000076149 (2000.12.13)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2002-0047651 (2002.06.22) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.12.13)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김인회 대한민국 경기도성남시분당구
2 박광범 대한민국 경기도평택시
3 문현찬 대한민국 경기도군포시
4 최성호 대한민국 경기도평택시비
5 박효덕 대한민국 경기도평택시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 송만호 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)
2 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2000-0266031-68
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.06.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.07.11 수리 (Accepted) 9-1-2002-0011090-61
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0272631-54
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2003.02.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0049539-10
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2005-5036534-08
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

실리콘 기판 위에 감광막을 도포하는 단계,

상기 감광막을 크롬마스크를 이용하여 노광하고 현상하여 감광막 패턴을 형성하는 단계,

상기 감광막 패턴에 도금을 통하여 니켈층을 형성하는 단계,

상기 니켈층을 연마하여 상기 감광막 패턴을 노출시키는 단계,

상기 감광막 패턴을 제거하는 단계,

상기 실리콘 기판을 식각하여 제거하는 단계

를 포함하는 유기 EL용 새도우 마스크의 제조 방법

2 2

제1항에서,

상기 감광막은 50 ㎛ 내지 100 ㎛ 의 두께로 스핀 코팅을 통하여 형성하는유기 EL용 새도우 마스크의 제조 방법

3 3

제1항에서,

상기 감광막 패턴의 폭은 50 ㎛ 이하인 유기 EL용 새도우 마스크의 제조 방법

4 4

제1항에서,

상기 감광막 패턴을 제거하는 단계에서는 감광막 제거제로 아세톤을 사용하는 유기 EL용 새도우 마스크의 제조 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.