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기판과; 상기 기판 상부면의 일측에서 타측까지 기판 내부로 Ti가 확산되어 형성되며, 상기 기판 상부면의 일측에서 타측까지 일부가 노출된 광도파로와; 상기 기판 상부면에 일부가 노출된 광도파로를 감싸며, 상기 광도파로를 따라서 상기 기판 상부면의 일부에 형성된 버퍼층과; 상기 버퍼층 상부에 형성된 제 2 편광 제어 전극과, 상기 제 2 편광 제어 전극 양측으로 이격되어 기판 상부면 각각에 형성된 제 1 및 3 편광 제어 전극으로 각각 이루어지며, 상호 이격되어 있는 제 1 내지 3 편광 제어 전극부로 구성된 저전압형 편광조절기
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제 1 항에 있어서, 상기 기판은, LiNbO3로 이루어진 것을 특징으로 하는 저전압형 편광조절기
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제 1 항에 있어서, 상기 버퍼층은, SiO2 박막인 것을 특징으로 하는 저전압형 편광조절기
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기판 상부면의 일측에서 타측까지 이어지는 기판 상부의 중심 영역에 Ti 박막을 증착하는 제 1 단계와; 상기 Ti 박막에서 Ti를 기판면에서 기판내부로 확산시켜, Ti 박막 하부의 기판에 광도파로를 형성하는 제 2 단계와; 상기 Ti 박막을 제거하고, 상기 광도파로를 감싸며 상기 광도파로를 따라서 상기 기판 상부면에 버퍼층을 형성하는 제 3 단계와; 상기 버퍼층 상부에 형성된 제 2 편광 제어 전극과, 상기 제 2 편광 제어 전극 양측으로 이격되어 기판 상부면 각각에 형성된 제 1 및 3 편광 제어 전극으로 각각 이루어지며, 상호 이격되어 있는 제 1 내지 3 편광 제어 전극부를 형성하는 제 4 단계로 구성된 저전압형 편광조절기의 제조 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 버퍼층의 두께는, 3000 ~ 5000Å인 것을 특징으로 하는 저전압형 편광조절기의 제조 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 버퍼층의 두께는, 3000 ~ 5000Å인 것을 특징으로 하는 저전압형 편광조절기의 제조 방법
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