요약 | 본 발명은 정밀도가 높고 제작이 용이한 광섬유 정렬소자의 V-그루브 제조방법을 개시한다.본 발명은 기판 위에 PMMA 또는 감광막을 일정 두께로 형성시키고, X-선 마스크를 이용해 두 번의 경사노광공정과 한 번의 수직노광공정을 수행하는 단계와, 현상액으로 노광된 PMMA 또는 감광막을 제거하여 현상공정 단계와, 현상되어 드러난 기판 위에 금속층을 형성하는 전기도금공정 단계와, 도금공정으로 생성된 금속층을 기판과 분리하는 분리공정 단계를 포함한다.본 발명에 따르면 1심 및 다심 V-그루브의 고정밀도를 실현할 수 있고 반도체 공정처럼 마스크를 이용하므로 반복 제작이 가능하다. 또한 금형을 제작하여 사출공정에 의해 플라스틱으로 이루어진 V- 그루브를 대량으로 생산할 수 있다. |
---|---|
Int. CL | G02B 6/36 (2006.01) G02B 6/38 (2006.01) |
CPC | G02B 6/3692(2013.01) G02B 6/3692(2013.01) G02B 6/3692(2013.01) G02B 6/3692(2013.01) |
출원번호/일자 | 1019980054458 (1998.12.11) |
출원인 | 전자부품연구원 |
등록번호/일자 | 10-0304204-0000 (2001.07.19) |
공개번호/일자 | 10-2000-0039200 (2000.07.05) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20010929) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (1998.12.11) |
심사청구항수 | 5 |