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이방성 나노소재 기반 투명 전도 유연기판 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015145746
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 투명 전도 유연 기판은 비전도성의 폴리머층을 포함하고, 폴리머층의 내부의 상부 표면(upper surface) 부근에 전도성을 갖는 이방성 나노소재(anisotropic nanomaterial)가 위치하고, 이방성 나노소재의 일부는 폴리머층의 상부 표면에 노출되어 있고, 폴리머층의 상부 표면의 평균조도(Ra)는 약 0.1 nm 내지 약 10 nm 이다.
Int. CL H01B 13/00 (2006.01) H01B 5/14 (2006.01)
CPC H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01)
출원번호/일자 1020130121526 (2013.10.11)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0042634 (2015.04.21) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.10.11)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 곽민기 대한민국 경기 성남시 분당구
2 김종웅 대한민국 서울 강동구
3 한철종 대한민국 서울 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.10.11 수리 (Accepted) 1-1-2013-0921846-42
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2013.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2013-1020852-17
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.04.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.05.15 수리 (Accepted) 9-1-2014-0041137-81
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.11.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0758443-57
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-1280786-56
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0106948-20
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0219841-61
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.04.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0331136-96
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.04.03 수리 (Accepted) 1-1-2015-0331135-40
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0565010-65
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.10.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-1018695-11
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.11.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-1134554-70
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.12.18 수리 (Accepted) 1-1-2015-1246867-04
15 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.12.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-1246870-31
16 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0297069-17
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
비전도성의 폴리머층을 포함하고, 상기 폴리머층의 내부의 상부 표면(upper surface) 부근에 전도성을 갖는 이방성 나노소재(anisotropic nanomaterial)가 위치하고, 상기 이방성 나노소재의 일부는 상기 폴리머층의 상부 표면에 노출되어 있고, 상기 폴리머층의 상부 표면의 평균조도(Ra)는 0
2 2
제1항에서, 상기 이방성 나노소재는 0
3 3
제1항에서, 상기 폴리머층의 상부 표면의 평균조도(Ra)값은 0
4 4
제1항에서, 상기 이방성 나노소재에서 외부로 노출되어 있는 표면은 상기 폴리머층의 상부 표면과 실질적으로 동일한 평면 상에 위치하는 투명 전도 유연 기판
5 5
기판 상에 용매, 열 또는 광에너지로 제거 가능한 유기 또는 무기물질로 조성되는 희생층을 코팅하는 단계,상기 희생층의 상부에 이방성 나노소재의 현탁액을 코팅하는 단계,상기 이방성 나노소재 및 상기 희생층의 상부에 경화성 폴리머를 코팅하는 단계,상기 경화성 폴리머층을 경화시키는 단계,용매, 열 또는 광에너지를 이용하여 희생층을 선택적으로 제거하는 단계, 그리고상기 이방성 나노소재가 임베드(embed)되어 있는 상기 경화성 폴리머층을 분리하는 단계를 포함하는 투명 전도 유연 기판의 제조방법
6 6
제5항에서, 상기 희생층은 독립적으로 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), PETDOT, 감광성 고분자(PR), 폴리비닐알콜(PVA), 폴리바이닐페놀(PVP) 또는 이들의 조합인 투명 전도 유연 기판의 제조방법
7 7
제5항에서, 상기 경화성 폴리머는 비전도성 폴리머인 투명 전도 유연 기판의 제조방법
8 8
제5항에서,상기 경화성 폴리머층을 경화시키는 단계는 열, 적외선, 마이크로 웨이브 또는 이들의 조합에 의해 수행되는 투명 전도 유연 기판의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.