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적층 세라믹 소자의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015145765
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 적층 세라믹 소자의 제조 방법에 관한 것으로, 소결(Sintering)된 도전성 페이스트막을 억제층(Constraining layer)으로 이용하여, 적층된 세라믹 기판으로 이루어진 소자 구조물의 X-Y방향으로 수축을 방지하고, 종래 기술과 같은 연마 공정이 불필요하고, 소자 구조물의 두께를 얇게 할 수 있으며, 정밀한 전극 패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다. 소결, 세라믹, 수축, 억제, 패턴
Int. CL H01L 41/29 (2013.01) H01L 41/273 (2013.01)
CPC H01L 41/273(2013.01) H01L 41/273(2013.01) H01L 41/273(2013.01) H01L 41/273(2013.01) H01L 41/273(2013.01) H01L 41/273(2013.01)
출원번호/일자 1020040110507 (2004.12.22)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-0593946-0000 (2006.06.20)
공개번호/일자 10-2006-0071987 (2006.06.27) 문서열기
공고번호/일자 (20060630) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.12.22)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조현민 대한민국 경기도 용인시
2 방규석 대한민국 경기도 평택
3 강남기 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전자부품연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2004-0606772-06
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2005-5036534-08
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.05.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.06.13 수리 (Accepted) 9-1-2006-0036726-79
5 등록결정서
Decision to grant
2006.06.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0342745-74
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
복수개의 세라믹 기판을 적층하여 소자 구조물을 형성하는 단계와; 상기 소자 구조물의 상, 하부에 전도성 페이스트막을 형성하는 단계와; 상기 전도성 페이스트막이 형성된 소자 구조물을 소결(Sintering)하는 단계와; 상기 소자 구조물의 외부 전극 단자를 형성하기 위하여, 상기 소자 구조물의 상, 하부에 형성된 전도성 페이스트막을 사진 식각 공정을 수행하여 패터닝하는 단계를 포함하여 구성된 적층 세라믹 소자의 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 전도성 페이스트막은, 상기 소자 구조물의 소결 온도보다는 낮은 온도에서 수축을 완료할 수 있는 금속 분말이 분산된 페이스트막으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 소자의 제조 방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 전도성 페이스트막은, 금속 분말이 분산된 페이스트 프린팅 또는, 금속 분말이 분산된 페이스트 필름을 라미네이션(Lamination)하여 형성하는 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 소자의 제조 방법
4 4
제 2 항에 있어서, 상기 전도성 페이스트막이 수축을 완료할 수 있는 온도는, 400 ~ 700℃인 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 소자의 제조 방법
5 5
제 2 항에 있어서, 상기 금속 분말은, Ag분말 또는 Cu분말인 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 소자의 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 Cu분말이 분산된 페이스트막인 경우, 상기 소결하는 단계에서 소결은 H2와 같은 환원가스 분위기에서 수행하는 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 소자의 제조 방법
7 7
제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 분말의 입도는 0
8 7
제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 분말의 입도는 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.