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극초단파를 이용한 ΙΤΟ 박막 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015145830
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 결정화된 ITO 나노 분말을 사용하여 ITO/금속 나노 잉크/페이스트를 제조하여 패터닝한 후, 극초단파를 이용하여 열처리함으로써 인듐 소비량을 절감할 수 있고, 기판 또는 소자 전체의 손상을 줄일 수 있는, 극초단파를 이용한 ITO 박막 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르는 극초단파를 이용한 ITO 박막 제조 방법은,ITO/금속 나노 분산액을 사용하여 기판 상에 ITO/금속 나노 잉크 층을 형성하는 단계;상기 ITO/금속 나노 잉크 층에 극초단파를 조사하는 단계를 포함하는 것을 구성적 특징으로 한다.
Int. CL H01B 13/00 (2006.01) H01B 5/14 (2006.01)
CPC H01B 13/0016(2013.01) H01B 13/0016(2013.01) H01B 13/0016(2013.01) H01B 13/0016(2013.01) H01B 13/0016(2013.01) H01B 13/0016(2013.01) H01B 13/0016(2013.01) H01B 13/0016(2013.01)
출원번호/일자 1020110090514 (2011.09.07)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1315104-0000 (2013.09.30)
공개번호/일자 10-2013-0027137 (2013.03.15) 문서열기
공고번호/일자 (20131007) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.09.07)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍성제 대한민국 경기도 군포시
2 곽민기 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 김종웅 대한민국 서울특별시 은평구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍순우 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 (서초동)(라온국제특허법률사무소)
2 김해중 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 라온국제특허법률사무소 (서초동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2011-0698103-03
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.08.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.09.21 수리 (Accepted) 9-1-2012-0073888-65
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0215318-88
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.05.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0477115-47
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.06.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0559370-74
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-0559352-52
9 등록결정서
Decision to grant		 2013.09.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0665833-67
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
ITO/금속 나노 분산액을 사용하여 기판 상에 ITO/금속 나노 잉크 층을 형성하는 단계; 및상기 ITO/금속 나노 잉크 층에 극초단파를 조사하는 단계를 포함하고,상기 ITO/금속 나노 분산액은,ITO 나노 입자와 안정화제를 용매에 투입하여 ITO 나노 입자 분산액을 형성하는 단계;상기 ITO 나노 입자 분산액에 금속염과 환원제를 투입하고, 극초단파를 조사하는 단계; 및극초단파가 조사된 상기 ITO 나노 입자 분산액의 입자 성장을 유도하는 단계에 의해 구성되는 것을 특징으로 하는극초단파를 이용한 ITO 박막 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 극초단파는 파장이 1mm 내지 1m이고, 10 ~ 5000W 범위의 파워로 1분 ~ 10분간 조사되는 것을 특징으로 하는극초단파를 이용한 ITO 박막 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 ITO/금속 나노 잉크 층은 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 그라비어 롤을 이용한 인쇄법, 스핀코팅, 바코팅 중 하나의 방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는극초단파를 이용한 ITO 박막 제조 방법
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서,상기 금속염은 금속 설파이트, 금속 할라이드 (예: 금속 클로라이드 또는 금속 브로마이드), 금속 니트레이트, 금속 아세테이트, 금속 니트라이트, 금속 옥사이드, 금속 카보네이트, 금속 하이드록사이드, 금속 옥살레이트, 금속 피라졸릴 보레이트, 금속 아지드, 금속 플루오로보레이트, 금속 카복실레이트, 금속 할로겐카복실레이트, 금속하이드록시카복실레이트, 금속 아미노카복실레이트, 금속 방향족 및 니트로 또는 플루오로 치환된 방향족 카복실레이트, 금속 방향족 및 니트로 또는 플루오로 치환된 방향족 카복실레이트, 금속 베타 디케토네이트, 금속 설포네이트 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는극초단파를 이용한 ITO 박막 제조 방법
6 6
제 1 항에 있어서,상기 ITO 나노입자 분산액에 투입되는 상기 금속염의 질량비는 0
7 7
제 1 항에 있어서,상기 극초단파는 파장이 1mm 내지 1m이고, 10 ~ 5000W 범위의 파워로 1분 ~ 10분간 조사되는 것을 특징으로 하는극초단파를 이용한 ITO 박막 제조 방법
8 8
제 1 항에 있어서
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 전자부품연구원 청정생산기술사업 청정공정을 이용한 고순도 인듐저감 나노분말 및 잉크개발