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초미세 입자 제거 시스템

  • 기술번호 : KST2015145904
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 액상 화합물을 미세 분무하고 이를 환원시킴으로써 대기중에 분포하는 1㎛ 이하의 다양한 크기의 입자를 응집시켜 제거하는 화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템에 관한 것이다.본 발명에 따르는 화학적 환원 반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템은,공기 유입구를 통해 시스템 내부로 유입되는 공기 중의 수분을 제거하는 전처리 필터(demister);분진을 제거하는 중간 필터(medium filter);초미세 입자를 제거하는 화학 반응 필터부;제 1 미세 필터부 및제 2 미세 필터부를 포함하며, 상기 전처리 필터, 중간 필터, 화학 반응 필터부, 제 1 미세 필터부, 제 2 미세 필터부는 순차적으로 구성되는 것을 구성적 특징으로 한다.
Int. CL B01D 47/06 (2006.01) B01D 53/10 (2006.01) B01D 46/42 (2006.01) B01D 53/18 (2006.01)
CPC B01D 46/0036(2013.01) B01D 46/0036(2013.01) B01D 46/0036(2013.01) B01D 46/0036(2013.01) B01D 46/0036(2013.01)
출원번호/일자 1020110144223 (2011.12.28)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0075907 (2013.07.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.28)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이철승 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 김선민 대한민국 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍순우 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 (서초동)(라온국제특허법률사무소)
2 김해중 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 라온국제특허법률사무소 (서초동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-1042594-67
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.04.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0297149-87
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2012.04.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0297160-80
4 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2013.02.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0117249-13
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0012957-99
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.05.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0316872-41
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.07.08 수리 (Accepted) 1-1-2013-0609785-14
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.08.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0715986-04
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.08.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0715964-00
12 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2013.12.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0880511-14
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0417252-80
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
공기 유입구를 통해 시스템 내부로 유입되는 공기 중의 수분을 제거하는 전처리 필터(demister);분진을 제거하는 중간 필터(medium filter);초미세 입자를 제거하는 화학 반응 필터부;제 1 미세 필터부 및제 2 미세 필터부를 포함하며, 상기 전처리 필터, 중간 필터, 화학 반응 필터부, 제 1 미세 필터부, 제 2 미세 필터부는 순차적으로 구성되는 것을 특징으로 하는화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템
2 2
제 1 항에 있어서,상기 화학 반응 필터부는,상기 중간 필터를 통과하고 초미세 입자를 포함하는 공기에 액상 화합물을 분사하기 위한 분무 장치;상기 액상 화합물이 표면에 흡착되어 초미세 입자들이 서로 응집하여 형성된 일차 입자를 화학적 결합시켜 고형화하는 2차 용액이 충진된 필름;고형화된 일차 입자를 제거하는 중간필터 또는 저밀도 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템
3 3
제 2 항에 있어서,상기 초미세 입자의 표면에 분사되는 액상 화합물로는 금속 전구체 용액이 사용되는 것을 특징으로 하는화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템
4 4
제 3 항에 있어서,상기 액상 화합물로 사용되는 금속 전구체 용액의 종류는 상기 초미세 입자의 표면특성에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템
5 5
제 4 항에 있어서,금속 전구체 용액은 금(Au), 은(Ag), 티타늄(Ti) 등의 각각의 이온 또는 이들 중 하나 이상을 포함하는 복합용액인 것을 특징으로 하는화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템
6 6
제 4 항에 있어서,상기 2차 용액은 상기 액상화합물로 사용되는 전구체 용액을 환원시킬 수 있는 물질인 것을 특징으로 하는화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템
7 7
제 2 항에 있어서,상기 화학 반응 필터부는,상기 초미세 입자에 흡착되고 남은 여분의 액상 화합물을 제거하기 위한 미스트 제거기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템
8 8
제 2 항에 있어서,상기 화학 반응 필터부는,상기 2차 용액을 회수하기 위한 필터링 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는화학적 환원반응을 이용한 초미세 입자 제거 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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