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기판 상에 광산란 매질층을 형성하는 단계;상기 광산란 매질층 상에 금속 성분을 포함하는 금속 유기잉크로 이루어지는 금속 유기잉크층을 형성하는 단계;열처리에 의해 상기 금속 유기잉크층을 소결하여 금속 나노 마스크를 형성하는 단계;상기 광산란 매질층을 식각하여 나노 요철 구조를 형성하는 단계; 및상기 금속 나노 마스크를 식각하는 단계를 포함하는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 기판은,유리기판 또는 유연기판 중 어느 하나를 포함하는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 유연기판은,폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리카보네이트(PC) 및 폴리이미드(PI) 중 어느 하나 이상을 포함하는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 광산란 매질층은,화학증착, 전자빔 증착, 열증착, 원자층 증착, 스퍼터를 포함하는 증착 방식, 또는 나노입자나 고분자 수지로 제조된 액상의 재료를 코팅 또는 프린팅하는 방식에 의해 형성되는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 광산란 매질층은,이산화규소(SiO2), 이산화티타늄(TiO2), 이산화지르코늄(ZrO2), 산화주석(SnOx), 삼산화이알루미늄(Al2O3), 삼산화이인듐(In2O3), 질화규소(SiNx)중 어느 하나의 물질로 이루어지는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 유기잉크층을 형성하는 단계는,상기 금속 유기잉크를 상기 광산란 매질층 상에 코팅하여 형성하는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 코팅은,스핀코팅, 슬릿코팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 그라비아 프린팅, 그라비아옵셋 프린팅, 리버스옵셋 프린팅, 플렉소 프린팅 중 어느 하나에 의해 수행하는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 금속 유기잉크층은,0
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제1항에 있어서, 상기 금속 유기잉크의 상기 금속성분은,은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 백금(Pt), 팔라듈(Pd), 알루미늄(Al) 및 몰리브덴(Mo) 중 어느 하나이거나, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리는,100 내지 300℃에서 수행되는 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 광산란 매질층의 식각은,건식식각 또는 습식식각인 나노 요철 구조가 형성된 기판의 제조방법
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