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인듐 포스파이드에 기반하는 발광성의 무카드뮴 코어/멀티셸 양자점

  • 기술번호 : KST2015146289
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점, 그러한 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점의 제조 방법, 그의 용도, 및 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점을 갖는 광전자 부품에 관한 것이다.
Int. CL C09K 11/56 (2006.01) C09K 11/88 (2006.01) H05B 33/14 (2006.01) C09K 11/70 (2006.01) H01L 51/50 (2006.01)
CPC C09K 11/565(2013.01) C09K 11/565(2013.01) C09K 11/565(2013.01) C09K 11/565(2013.01) C09K 11/565(2013.01)
출원번호/일자 1020147026512 (2014.09.22)
출원인 프라운호퍼-게젤샤프트 추르 푀르데룽 데어 안제반텐 포르슝 에 파우, 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1687086-0000 (2016.12.09)
공개번호/일자 10-2015-0032655 (2015.03.27) 문서열기
공고번호/일자 (20161215) 문서열기
국제출원번호/일자 PCT/EP2013/053264 (2013.02.19)
국제공개번호/일자 WO2013127662 (2013.09.06)
우선권정보 독일  |   10 2012 203 036.0   |   2012.02.28
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국제출원
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.09.22)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 프라운호퍼-게젤샤프트 추르 푀르데룽 데어 안제반텐 포르슝 에 파우 독일 독일 ***** 뮌헨 한자슈트라쎄 *
2 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 그레코 토니노 독일 독일 *****
2 이펜 크리슈티안 독일 독일 *****
3 베델 아르민 독일 독일 ***** 텔토브

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인코리아나 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 **길 **(역삼동, 케이피빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 프라운호퍼-게젤샤프트 추르 푀르데룽 데어 안제반텐 포르슝 에 파우 독일 독일 ***** 뮌헨 한자슈트라쎄 *
2 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허법 제203조에 따른 서면
[Patent Application] Document according to the Article 203 of Patent Act
2014.09.22 수리 (Accepted) 1-1-2014-0899048-07
2 보정요구서
Request for Amendment
2014.10.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0168591-14
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2014-1051649-05
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2014-1164619-52
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2014-1284795-50
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-0064566-18
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.12.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0847745-30
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.02.03 수리 (Accepted) 1-1-2016-0118448-74
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2016-0204930-10
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.03.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0204933-57
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.07.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0534867-84
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.08.25 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0829843-83
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2016-0829842-37
14 등록결정서
Decision to Grant Registration
2016.09.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0670613-51
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2018-5165135-35
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
무카드뮴 코어-멀티셸 양자점으로서, a) 인듐 포스파이드를 포함하는 코어, b) 상기 코어의 표면 위로 성장된, 제 1 재료의 제 1 셸, 및 c) 상기 제 1 셸의 표면 위로 성장된, 상기 제 1 셸의 상기 제 1 재료와는 별개의 제 2 재료의 제 2 셸을 포함하고,상기 코어와 상기 제 1 셸 사이의 격자 상수 차이가 2% 내지 8% 이고,상기 코어와 상기 제 2 셸 사이의 격자 상수 차이가 13% 미만인, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 셸의 상기 제 1 재료는 아연 셀레나이드, 아연 설파이드 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 셸의 상기 제 2 재료는 아연 셀레나이드, 아연 설파이드 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점
4 4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 셸은 코어와 제 2 셸의 격자 상수 사이에 놓이는 격자 상수를 갖는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점
5 5
삭제
6 6
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 셸과 상기 제 2 셸 사이의 격자 상수 차이가 3% 내지 9% 인, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점
7 7
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 코어와 상기 제 2 셸 사이의 격자 상수 차이가 5% 내지 13% 인, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점
8 8
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 셸의 상기 제 1 재료는 아연 셀레나이드를 포함하고, 상기 제 2 셸의 상기 제 2 재료는 아연 설파이드를 포함하는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점
9 9
제 1 항 또는 제 2 항에 따른 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점의 제조 방법으로서, a) 인듐 포스파이드 나노입자를 포함하는 베이스 (base) 용액을 제공하는 단계, b) 적어도 하나의 아연 카르복실레이트를 제공하는 단계, c) 적어도 하나의 황 소스 또는 셀레늄 소스를 제공하는 단계, d) 단계 a) 의 인듐 포스파이드 나노입자를 포함하는 상기 베이스 용액을 단계 b) 의 적어도 하나의 아연 카르복실레이트와 접촉시키는 단계, e) 단계 d) 로부터 획득되는 혼합물을 단계 c) 의 적어도 하나의 황 소스 또는 셀레늄 소스와 접촉시키는 단계, f) 단계 e) 로부터 획득되는 혼합물을 단계 b) 의 적어도 하나의 아연 카르복실레이트와 접촉시키는 단계, 및 g) 단계 f) 로부터 획득되는 혼합물을 단계 c) 의 적어도 하나의 황 소스 또는 셀레늄 소스와 접촉시키는 단계를 포함하고, 상기 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점은 원 포트 (one-pot) 프로세스로 제조되는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점의 제조 방법
10 10
제 9 항에 있어서, 인듐 포스파이드 나노입자를 포함하는 상기 베이스 용액은, i) 인듐(Ⅲ) 아세테이트, 인듐(Ⅲ) 플루오라이드, 인듐(Ⅲ) 클로라이드, 인듐(Ⅲ) 브로마이드, 인듐(Ⅲ) 아이오다이드, 인듐(Ⅲ) 나이트레이트, 인듐(Ⅲ) 트리플레이트, 인듐(Ⅲ) 토실레이트, 인듐(Ⅲ) 메실레이트, 인듐(Ⅲ) 술페이트, 인듐(Ⅲ) 아세틸-아세토네이트, 인듐(Ⅲ) tert-부톡사이드, 인듐(Ⅲ) 하이드록사이드, 인듐(Ⅲ) 퍼클로레이트, 인듐(Ⅲ) 설파이드 및 이들의 혼합물을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 인듐(Ⅲ) 염을, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 카프로산, 헵탄산, 카프릴산, 카프르산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 아크릴산, 메타크릴산, 부트-2-엔산, 부트-3-엔산, 펜트-2-엔산, 펜트-4-엔산, 헥스-2-엔산, 헥스-3-엔산, 헥스-4-엔산, 헥스-5-엔산, 헵트-6-엔산, 옥트-2-엔산, 데스-2-엔산, 언데스--10-엔산, 도데스-5-엔산, 올레산, 가돌레산, 에루크산 (gadoleic acid), 리놀레산, α-리놀렌산, γ-리놀레산, 칼렌드산 (calendic acid), 에이코사트리엔산 (eicosatrienoic acid), 아라키돈 산, 스테아리돈산 (stearidonic acid), 벤조산, 파라-톨루엔산, 오르토-톨루엔산, 메타-톨루엔산, 하이드로신남산, 나프텐산, 신남산 및 이들의 혼합물을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 카르복시산과 접촉시키는 단계, ii) 단계 i) 로부터 획득되는 혼합물을 적어도 하나의 아연 카르복실레이트와 접촉시키는 단계, 및 iii) 단계 ii) 로부터 획득되는 혼합물을 트리스(트리메틸실릴)포스핀과 접촉시키는 단계에 의해 획득되는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점의 제조 방법
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 아연 카르복실레이트는, 아연 아세테이트, 아연 플루오라이드, 아연 클로라이드, 아연 브로마이드, 아연 아이오다이드, 아연 나트이레이트, 아연 트리플레이트, 아연 토실레이트, 아연 메실레이트, 아연 옥사이드, 아연 술페이트, 아연 아세틸아세토네이트, 아연 톨루엔-3,4-디티올레이트, 아연 p-톨루엔-술포네이트, 아연 디에틸디티오카르바메이트, 아연 디벤질티오카르바메이트 및 이들의 혼합물을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 아연 염을, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 카프로산, 헵탄산, 카프릴산, 카프르산, 언데칸산 (undecanoic acid), 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 아크릴산, 메타크릴산, 부트-2-엔산, 부트-3-엔산, 펜트-2-엔산, 펜트-4-엔산, 헥스-2-엔산, 헥스-3-엔산, 헥스-4-엔산, 헥스-5-엔산, 헵트-6-엔산, 옥트-2-엔산, 데스-2-엔산, 언데스--10-엔산, 도데스-5-엔산, 올레산, 가돌레산, 에루크산, 리놀레산, α-리놀렌산, γ-리놀레산, 칼렌드산, 에이코사트리엔산, 아라키돈 산, 스테아리돈산, 벤조산, 파라-톨루엔산, 오르토-톨루엔산, 메타-톨루엔산, 하이드로신남산, 나프텐산, 신남산, 파라-톨루엔술폰산 및 이들의 혼합물을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 카르복시산과 접촉시킴으로써 획득되는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점의 제조 방법
12 12
제 9 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 황 소스 또는 셀레늄 소스는 원소 황, 옥탄티올, 도데칸티올, 옥타데칸티올, tert-부탄티올, 트리부틸-포스판 설파이드, 사이클로헥실 이소치오시아네이트, α-톨루엔티올, 에틸렌 트리티오카보네이트, 알릴 메르캅탄, 비스(트리메틸실릴) 설파이드, 트리옥틸포스판 설파이드, 트리옥틸포스핀 셀레나이드 및 이들의 혼합물을 포함하는 그룹으로부터 선택되는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점의 제조 방법
13 13
제 9 항에 있어서, 단계 e) 및/또는 단계 g) 로부터 획득되는 혼합물이 180℃ 내지 320℃ 의 온도로 가열되는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점의 제조 방법
14 14
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,OLED, 태양 전지, 발광체, X선 신틸레이터, 형광 수집기 (fluorescence collectors), 유기 전계효과 트랜지스터에서 사용되거나, 생분석 (bioanalysis) 에서 형광성 라벨로서 사용되거나, 또는 형광성 안전 장치로서 사용되기 위한 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점
15 15
제 1 항 또는 제 2 항에 따른 적어도 하나의 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점을 갖는 광전자 부품
16 16
제 10 항에 있어서, 단계 e) 및/또는 단계 g) 및/또는 단계 iii) 로부터 획득되는 혼합물이 180℃ 내지 320℃ 의 온도로 가열되는, 무카드뮴 코어-멀티셸 양자점의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP02820108 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 EP02820108 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 WO2013127662 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 DE102012203036 DE 독일 DOCDBFAMILY
2 EP2820108 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
3 EP2820108 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
4 WO2013127662 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.