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기판 상부에 서로 다른 굴절률의 물질층이 QWOT(Quater Wave Optical Thickness)의 두께로 교번 적층된 QWOT 적층 구조막을 형성하는 단계; 및상기 QWOT 적층 구조막 상부에 서로 다른 굴절률의 물질층이 Non-QWOT의 두께로 교번 적층된 Non-QWOT 적층 구조막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지며,상기 Non-QWOT 적층 구조막을 형성하는 단계 이후에;QWOT의 2배 보다 더 큰 정수배의 두께를 가지는 박막 두께 제어층을 형성하는 단계와;상기 박막 두께 제어층 상부에 Non-QWOT 적층 구조막을 형성하는 단계;를 적어도 2회 이상 반복하여 더 수행하는 것을 특징으로 하는 광학 다층 박막 제조방법
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제1항에 있어서,상기 박막 두께 제어층은;제1굴절률을 가지는 물질로 이루어지는 제1 박막 두께 제어층과;상기 제1 박막 두께 제어층 상부에 형성되며 상기 제1 박막 두께 제어층을 이루는 물질과 다른 제2굴절률을 가지는 물질로 이루어지는 제2 박막 두께 제어층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 다층 박막 제조방법
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제3항에 있어서,상기 제1 박막 두께 제어층과 상기 제2 박막 두께 제어층 사이에 Non-QWOT 적층 구조막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 다층 박막 제조방법
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제3항에 있어서,상기 박막 두께 제어층 상부에 Non-QWOT 적층 구조막을 형성하는 단계는;상기 제1 박막 두께 제어층 및 제2 박막 두께 제어층의 증착률을 분석하는 제10단계;상기 제1 박막 두께 제어층의 증착률로 상기 제1 박막 두께 제어층의 물질과 같은 굴절률을 갖는 물질층을 Non-QWOT의 두께로 형성하는 제20단계;상기 제2 박막 두께 제어층의 증착률로 상기 제2 박막 두께 제어층의 물질과 같은 굴절률을 갖는 물질층을 Non-QWOT의 두께로 형성하는 제30단계; 및상기 제20단계와 제30단계를 반복적으로 수행하여 Non-QWOT 적층 구조막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 다층 박막 제조방법
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제3항 또는 제4항에 있어서,상기 제1 박막 두께 제어층을 이루는 물질의 굴절률이 상기 제2 박막 두께 제어층을 이루는 물질의 굴절률보다 더 큰 것을 특징으로 하는 광학 다층 박막 제조방법
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제3항 또는 제4항에 있어서,상기 제1 박막 두께 제어층을 이루는 물질의 굴절률이 상기 제2 박막 두께 제어층을 이루는 물질의 굴절률보다 더 작은 것을 특징으로 하는 광학 다층 박막 제조방법
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제6항에 있어서,상기 제1 박막 두께 제어층을 이루는 물질은 ZrO2, TiO2, Ge, Ta2O5 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 다층 박막 제조방법
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제7항에 있어서,상기 제1 박막 두께 제어층을 이루는 물질은 SiO2 또는 MgF2 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 다층 박막 제조방법
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