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기판의 표면 근방에 형성된 광도파로; 상기 광도파로 및 기판 상에 형성된 파릴렌 버퍼층; 상기 파릴렌 버퍼층의 표면 일부를 노출하는 도전패턴; 상기 도전패턴 상에 형성된 전극패턴; 및 상기 전극 패턴 상에 접착된 외부단자를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 집적광학소자
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제1항에 있어서, 상기 기판은 LiNbO3, LiTaO3, GaAs, InP 또는 유리로 구성된 것을 특징으로 하는 집적광학소자
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제1항에 있어서, 상기 도전패턴은 금 박막으로 구성된 것을 특징으로 하는 집적광학소자
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제1항에 있어서, 상기 전극패턴은 금 후막으로 구성된 것을 특징으로 하는 집적광학소자
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제1항에 있어서, 상기 전극패턴 및 상기 파릴렌 버퍼층 상에 소자보호용 파릴렌막이 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 집적광학소자
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기판의 표면 근방에 광도파로를 형성하는 단계; 상기 광도파로 및 기판 상에 파릴렌 버퍼층을 형성하는 단계, 상기 파릴렌 버퍼층 상에 도전막을 형성하는 단계, 상기 도전막을 식각하여 상기 파릴렌 버퍼층의 표면 일부를 노출하는 도전패턴을 형성하는 단계, 상기 도전패턴 상에 전극패턴을 형성하는 단계; 및 상기 전극 패턴 상에 외부단자를 접착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 집적광학소자의 제조방법
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7 |
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제6항에 있어서, 상기 도전막은 금 박막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 집적광학소자의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 전극패턴 및 상기 파릴렌 버퍼층 상에 소자보호용 파릴렌막이 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 집적광학소자의 제조방법
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