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3차원 형태의 부품으로 제작 가능한 화이버 형태의 소재; 및상기 화이버 형태의 소재에 액상 형태로 흡착되어 코팅되며, 레이저 조사시 활성화되어 도금 공정에서 금속층을 형성하는 Cu3N 소재를 포함하는 전도체 패턴 형성이 용이한 복합소재
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제1항에 있어서,상기 화이버 형태의 소재는 글래스 화이버, 카본 화이버, 셀루로우스 화이버, 케나프 화이버, 그라파이트 화이버 및 카본 나노튜브 중 어느 하나인 것인 전도체 패턴 형성이 용이한 복합소재
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제1항에 있어서,상기 화이버 형태의 소재는 산 또는 염기로 세척되어 커플링제로 표면처리된 것인 전도체 패턴 형성이 용이한 복합소재
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제4항에 있어서,상기 커플링제는 실란 커플링제, 폴리머 커플링제, 중합성 커플링제 및 알콕시티오황산계 커플링제 중 어느 하나이며, 상기 화이버 형태의 소재 종류에 따라 선택되는 것인 전도체 패턴 형성이 용이한 복합소재
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화이버 형태의 소재 및 액상 형태의 Cu3N 조성물을 포함하는 혼합물을 가열하여 상기 화이버 형태의 소재를 제외한 나머지 혼합물을 용해시키는 단계;상기 혼합물을 냉각하고 탈기시키는 단계;상기 탈기된 혼합물을 열처리하는 단계; 및상기 열처리된 혼합물을 세척 및 건조시키는 단계를 포함하는 전도체 패턴 형성이 용이한 복합소재 제조방법
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제6항에 있어서,상기 세척 및 건조된 혼합물을 사출성형하고, 상기 사출성형된 혼합물의 표면에 레이저를 조사하여 패터닝하는 단계; 및상기 패터닝된 혼합물을 도금하는 단계를 더 포함하는 전도체 패턴 형성이 용이한 복합소재 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 패터닝된 혼합물을 도금하는 단계는,상기 패터닝된 혼합물을 무전해 도금 방법으로 도금한 후, 전해 도금 방법으로 도금하는 것인 전도체 패턴 형성이 용이한 복합소재 제조방법
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