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화이버 소재로 구성된 플렉시블 소재 표면을 세척하는 단계; 상기 플렉시블 소재에 코팅되며 레이저에 의해 활성화되어 도금공정을 통해 금속층을 형성하는 코팅소재 코팅 단계;상기 코팅 후, 남은 코팅 용액을 휘발시키기 위해 일정 온도로 가열하여 코팅된 플렉시블 소재를 건조시키는 단계; 상기 건조된 플렉시블 소재에 코팅된 용액과 플렉시블 소재 사이의 결합력을 높이기 위해 상기 건조된 플렉시블 소재를 일정 온도로 열처리하는 단계; 상기 열처리된 플렉시블 소재에 코팅되며, 레이저에 의해 활성화되어 도금 공정을 통해 금속층을 형성하기 위해 코팅 소재를 코팅하는 단계; 상기 코팅된 플렉시블 소재 표면에 형성하고자 하는 패턴의 형태로 레이저를 선택적으로 조사하여 상기 코팅된 금속층을 패터닝하는 단계; 및상기 패터닝된 플렉시블 소재를 무전해 도금 방식으로 도금하여 전도체 패턴을 형성하는 단계; 를 포함하는 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅소재는 Zn 아세테이트의 액상 용액인 것인 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅소재는 CuCr2O4의 액상 용액인 것인 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅소재는 Co, Ni, Ag 중 선택된 금속 원소의 산화물이거나 그 산화물의 액상 용액인 것인 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅소재는 Co, Ni, Cu, Ag 중 선택된 금속 원소의 규산염, 붕산염 및 옥살산염 중 어느 하나인 것인 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅소재는 ABO2형태의 복합체 산화물로서, A는 Co, Ni 및 Cu 중 선택된 어느 하나의 금속 원소이고, B는 Ni, Mn, Cr, Al 및 Fe 중 선택된 어느 하나의 금속 원소이며, 상기 A 및 B는 서로 다른 것인 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅소재는 염화구리인 것인 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅소재는 Cu2(OH)PO4, 인산구리, 황산구리 및 티오시안제1구리 중 어느 하나의 액상 용액인 것인 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅소재는 Cu3N의 액상 용액인 것인 선택적인 전도체 패턴 형성이 가능한 소재 제조방법
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