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표면처리된 나노입자, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 잉크조성물

  • 기술번호 : KST2015146682
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저온 분위기에서 열처리를 통하여 초미세 금속 나노입자를 제조하고, 그 표면에 귀금속을 코팅하여 표면처리된 초미세 나노입자를 제조하는 방법을 제공한다. 본 발명은 저온 공정을 통하여 입자 성장을 억제하여 초미세 금속 나노입자를 제조할 수 있으며, 분쇄공정을 생략하여도 초미세 금속 나노입자가 얻어지며, 시간, 단가 절감이 가능하고, 환경오염 및 독성이 상대적으로 적은 재료를 사용함으로써, 환경 오염 요인을 제거할 수 있으며, 귀금속의 양을 줄임으로써 단가를 절감함과 동시에 도전성이 높으며 내산성, 내화학성이 우수하고 초미세한 입경을 갖는 표면처리된 초미세 나노입자 및 이를 함유한 잉크 조성물을 제공하여 표시장치의 전극 등을 보다 우수하게 제조할 수 있다. 도전성 나노입자, 잉크 조성물, 귀금속
Int. CL B82B 3/00 (2014.01) C09D 11/38 (2014.01)
CPC B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01)
출원번호/일자 1020070109024 (2007.10.29)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-0945691-0000 (2010.02.26)
공개번호/일자 10-2009-0043262 (2009.05.06) 문서열기
공고번호/일자 (20100305) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.10.29)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍성제 대한민국 경기도 군포시 산
2 한정인 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.10.29 수리 (Accepted) 1-1-2007-0775205-63
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.04.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2009-0027180-43
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.09.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0389801-82
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.11.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0719110-02
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0719108-10
7 등록결정서
Decision to grant
2010.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0079477-67
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속과 유기물이 킬레이션(Chelation)된 형태인 금속-유기물 혼합제가 유기용제에 용해 또는 분산된 금속-유기물 혼합제 함유액을 제조하는 단계; 상기 함유액의 유기용제를 제거하여 불순 유기물이 존재하는 금속 나노입자를 얻는 단계; 250℃ 이하의 저온 분위기에서 열처리하여 상기 불순 유기물을 제거하는 단계; 및 불순 유기물이 제거된 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅하는 단계;를 포함하여 이루어진 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법으로서, 분쇄공정 없이도 평균입경은 40nm이하의 표면처리된 초미세 나노입자를 얻을 수 있는 것을 특징으로 하는
2 2
제1항에 있어서, 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅하는 단계 전에 금속 나노입자를 알칼리 용액으로 세척 후 산성 용액으로 표면을 활성화시키는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 혼합제에 사용되는 금속은 구리, 니켈, 알루미늄, 코발트, 마그네슘, 그 산화물, 및 이들 중 적어도 하나가 포함된 합금 중에서 적어도 하나 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 귀금속은 금, 은, 백금, 팔라디움 및 이들 중 적어도 하나가 포함된 합금 중에서 적어도 하나 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 유기용제를 제거하는 단계는 상온에서 교반을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 교반은 8시간 이상 수행되어 유기용제를 서서히 제거하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 혼합제는 금속과 유기물이 킬레이션(Chelation)된 형태인 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 유기물로는 아세테이트(acetate), 아세틸아세토네이트(acetylacetonate), 옥살레이트(oxalate) 및 이들로부터 유도되는 산(acid) 중에서 적어도 하나 포함되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 유기용제는 아세톤, 탄소수 1~4의 알콜 및 글리콜 중에서 적어도 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 열처리하여 유기물을 제거하는 단계는 200℃ 미만의 저온 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
11 11
삭제
12 12
제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 혼합제 100 중량 대비 금속은 15 내지 50 중량부 포함되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
13 13
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14 14
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15 15
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16 16
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