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전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트

  • 기술번호 : KST2015146748
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전극(electrode)을 가지는 웰(well)을 포함하는 마이크로플레이트(microplate)에 대한 것으로, 더욱 구체적으로는 검사를 수행하기 위한 복수의 웰(well)을 포함하고, 상기 웰 각각은 마이크로유체채널과 상기 마이크로유체채널 위에 형성된 워킹전극을 포함하는 것을 특징으로 하여, 마이크로플레이트의 웰 내부에서 시료를 일측으로 흐르게 할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 워킹전극에 의해 전기화학 방식 또는 전기화학발광 방식에 의해 타겟분자를 검출할 수 있어서, 종래에 형광 측정을 이용하는 발광 방식보다 검출 감도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Int. CL G01N 35/08 (2006.01) G01N 27/26 (2006.01)
CPC G01N 35/08(2013.01) G01N 35/08(2013.01) G01N 35/08(2013.01) G01N 35/08(2013.01) G01N 35/08(2013.01)
출원번호/일자 1020140030745 (2014.03.17)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0108062 (2015.09.25) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.03.17)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이국녕 대한민국 서울특별시 성북구
2 성우경 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 이민호 대한민국 서울특별시 영등포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.03.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0251882-38
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.02.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.04.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0023285-42
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0592620-28
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2015-1061031-13
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-1166365-31
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.12.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-1194997-77
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2015-1194991-04
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.02.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0146773-45
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2016-0278990-17
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.03.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0279005-48
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0303638-84
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.06.14 수리 (Accepted) 1-1-2016-0568812-78
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.06.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0568790-51
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0621941-84
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
검사를 수행하기 위한 복수의 웰(well)을 포함하고, 상기 웰 각각은 시료가 주입되는 로딩(loading)부; 상기 로딩부로부터 시료를 유입받는 유입구와, 상기 유입구에 연통되고 스피럴(spiral) 구조를 가지는 마이크로유체채널과, 상기 마이크로유체채널에 연통되는 배출구를 가지는 채널부; 및 상기 마이크로유체채널 위에 형성된 워킹전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트(microplate)
2 2
제1항에 있어서, 상기 채널부의 유입구는 마이크로유체채널의 가운데에 위치하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
3 3
제1항에 있어서, 상기 로딩부는 시료를 상기 채널부의 유입구로 전달하는 주입구를 가지고,상기 주입구와 유입구는 수직 방향으로 나란하게 위치하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
4 4
제3항에 있어서, 상기 워킹전극은 로딩부와 채널부 사이에 위치하고, 상기 주입구와 유입구에 대응하는 관통구멍을 가지는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
5 5
검사를 수행하기 위한 복수의 웰(well)을 포함하고, 상기 웰 각각은 시료가 주입되는 로딩(loading)부; 상기 로딩부로부터 시료를 유입받는 유입구와, 상기 유입구에 연통되고 스피럴(spiral) 구조를 가지는 마이크로유체채널과, 상기 마이크로유체채널에 연통되는 배출구를 가지는 채널부; 및 상기 마이크로유체채널 위에 위치하고 워킹전극이 형성된 전극기판;을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트(microplate)
6 6
제5항에 있어서,상기 워킹전극은 전극기판의 아래에 형성된 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
7 7
제5항에 있어서,상기 전극기판은 상기 로딩부와 채널부 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
8 8
제1항에 있어서, 상기 채널부의 배출구 아래에 위치하는 흡수패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
9 9
제1항에 있어서, 상기 채널부의 배출구 아래에 위치하는 음압수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
10 10
제1항에 있어서, 상기 로딩부는 상기 워킹전극에 대응하는 카운터전극 및 기준전극 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
11 11
제5항에 있어서, 상기 전극기판의 상면에 형성된 카운터전극 및 기준전극 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
12 12
제1항에 있어서, 상기 채널부는 상기 워킹전극에 대응하는 카운터전극 및 기준전극 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
13 13
제5항에 있어서, 상기 배출구 주변에 형성된 카운터전극 및 기준전극 중 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
14 14
제1항에 있어서, 상기 로딩부와 유입구는 상기 마이크로유체채널의 일측에 위치하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
15 15
제14항에 있어서, 상기 배출구는 마이크로유체채널의 가운데에 위치하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
16 16
제5항에 있어서, 상기 전극기판은 투명한 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
17 17
제5항에 있어서, 상기 마이크로유체채널 아래에 위치하는 반사판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
18 18
제17항에 있어서, 상기 반사판 아래에 위치하는 카운터전극 및 기준전극 중 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
19 19
검사를 수행하기 위한 복수의 웰(well)을 포함하고, 상기 웰 각각은 시료가 주입되는 로딩(loading)부; 상기 로딩부로부터 시료를 유입받는 유입구와, 상기 유입구에 연통되고 스피럴(spiral) 구조를 가지는 마이크로유체채널과, 상기 마이크로유체채널에 연통되는 배출구를 가지는 채널부; 및 상기 마이크로유체채널의 내부 벽면에 증착된 워킹전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트(microplate)
20 20
제19항에 있어서, 상기 마이크로유체채널 위에 위치하고 워킹전극이 형성된 전극기판;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극을 가지는 웰을 포함하는 마이크로플레이트
21 21
제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 따른 마이크로플레이트의 로딩부에, 타겟분자를 포함하는 시료를 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 타겟분자의 검사방법
22 22
제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 따른 마이크로플레이트와,상기 워킹전극에서 발생하는 신호를 검출할 수 있는 신호검출수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 타겟분자의 검사장치
23 23
제22항에 있어서, 상기 신호검출수단은 상기 마이크로유체채널 위에 위치하는 광 검출기인 것을 특징으로 하는 타겟분자의 검사장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.