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상부로부터 플라즈마가 발생되는 플라즈마발생부와, 발생된 플라즈마를 모아두고 있는 플라즈마발생부 하부에 장치된 플라즈마충전부와, 모아둔 플라즈마를 이온원장치 밖으로 인출하는 플라즈마충전부 하부에 장치된 이온빔 인출부로 구성되어 대전류 및 대면적 이온빔을 발생시키는 이온원장치와; 이온빔 표면연마공정에 필요한 진공도를 유지시키는 진공장치;로 구성된 표면연마부와; 상기 표면연마부의 이온원장치에 전원을 제어하여 공급하는 이온원 제어 전원부;로 구성되어 광학용 금형, 자동차 금형, 전자부품 금형, 생활용품 금형, 초정밀 사출금형등에 이온빔을 조사하여 표면을 연마하는 장치에 있어서,상기 이온원장치 하부에 장치되어 자장으로 균일한 이온빔 연마를 위해 솔레노이드 코일로 구성된 이온빔광학장치와; 상기 이온빔광학장치 하부의 진공장치 내부에, 이온빔 가공시 일정한 형상을 가공하기 위하여 상하, 좌우, 편각, 회전이 가능토록 이온빔 스퍼터링 할 금형이 부착된 3차원 금형지그 장치를 좌우 이송시키는 좌우이송장치와, 금형지그 장치에 수직하게 설치되어 균등한 스퍼터링을 가능하게 하는 회전장치 및 각도에 따른 스퍼터링을 가능하게 하는 분각장치를 상하 이송시키는 상하이송장치와, 상하이송장치상에 직각되게 설치된 분각장치와, 분각장치 상에 설치된 회전장치로 구성된 3차원 금형지그장치와; 상기 이온빔광학장치 하부의 진공장치 내부에 이온빔의 조사시간의 정확한 조절을 위한 빔 차단장치와 이온빔의 공간적인 분포를 진단하는 이온빔 진단장치;를 더 포함하여 구성한 것을 특징으로 하는 이온빔 스퍼터링에 의한 금형 표면연마장치
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제 3항에 있어서,상기 표면연마부, 이온원 제어 전원부, 및 3차원 금형지그장치 및 진공장치 제어부 하부에 각각 설치된 이송수단을 더 포함하여 이동형으로 구성한 것을 특징으로 하는 이온빔 스퍼터링에 의한 금형 표면연마장치
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이온빔을 인출 후, 금형에 조사하여 이온빔 스퍼터링에 의한 금형 표면을 연마하는 방법에 있어서, 상기 제 3항 또는 5항 중 어느 한 항의 금형 표면연마장치를 구비한 후, 이온원장치로부터 제논, 아르곤, 질소, 헬륨 등으로 이루어진 군중에서 선택된 하나의 기체를 이온화하여 플라즈마상태로 만든 후 이온화된 이온을 전위차를 이용하여 1∼30keV의 에너지, 0
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제 8항에 있어서,상기 조사되는 빔은 균일한 연마를 위하여 20cm이상의 빔 직경을 가지는 이온빔의 빔전류밀도의 오차범위는 5% 이내로 유지토록 하여 이온빔 연마를 통한 표면거칠기 정밀도를 향상 또는 3차원 형상을 가공하는 방법을 특징으로 하는 이온빔 스퍼터링에 의한 금형 표면연마방법
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