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입자에 자성을 부여하여 용매로부터 자기장에 의한 분리 및 회수가 가능하도록 초상자성을 가지는 산화철 나노입자;입자에 친수성을 부여하여 물에 용해되도록 상기 산화철 나노입자의 표면에 코팅된 폴리글리세롤 고분자; 및입자에 기설정된 값 이상의 삼투압을 부여하여 유도용질의 역방향 흐름 가능성을 제거하도록 상기 폴리글리세롤 고분자에 도입된 카르복실기를 포함하는 유도용질용 자성 나노입자
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제1항에 있어서,상기 산화철 나노입자는 철 아세틸아세톤, 철 펜타카보닐 및 철 쿠페론으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 철 화합물을 원료로 하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자
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제2항에 있어서,상기 산화철 나노입자는 디에틸렌글라이콜, 트리에틸렌글라이콜, 글리세롤, 디에틸렌트리아민 및 트리에틸렌테트라아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 용매와 상기 철 화합물을 반응시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자
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제1항에 있어서,상기 폴리글리세롤 고분자는 글리시돌을 용액에 상기 산화철 나노입자를 반응시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자
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제1항에 있어서,상기 카르복실기는 상기 폴리글리세롤 고분자가 코팅된 산화철 나노입자를 디메틸포름아마이드에 분산시킨 후, 숙신산무수물 및 트리에틸아민과 반응시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자
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열분해법에 의해 산화철 나노입자를 제조하는 단계;상기 산화철 나노입자의 표면에 폴리글리세롤 고분자를 합성하는 단계; 및상기 폴리글리세롤 고분자에 카르복실기를 도입하는 단계를 포함하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 산화철 나노입자를 제조하는 단계는,철 화합물 1~100g과 말단에 하이드록실기(-OH) 또는 아민기(-NH2)를 구비하는 용매 1~1000mL를 기설정된 온도 및 비활성기체 분위기에서 기설정된 시간 동안 가열하여 열분해하는 단계; 및열분해 생성물의 온도를 20~30℃의 상온으로 낮추고 미반응물과 용매를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 철 화합물은 철 아세틸아세톤, 철 펜타카보닐 및 철 쿠페론으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 용매는 디에틸렌글라이콜, 트리에틸렌글라이콜, 글리세롤, 디에틸렌트리아민 및 트리에틸렌테트라아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 열분해하는 단계는,상기 철 화합물과 상기 용매를 200~800rpm의 속도로 교반시키면서 1~10℃/min의 속도로 200~350℃까지 승온시키는 단계; 및상기 철 화합물과 상기 용매를 200~350℃의 온도에서 3~24시간 동안 유지시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 비활성기체는 질소 및 아르곤으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 제거하는 단계는,상기 열분해 생성물의 온도를 20~30℃의 상온까지 낮추는 단계; 및아세톤, 메탄올, 디클로로메탄 및 에틸아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 상기 열분해 생성물에 첨가하고 원심분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 제거하는 단계는 열분해 생성물의 잔류 액체를 제거하도록 상기 원심분리하는 단계 이후에 상기 열분해 생성물을 진공 건조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 합성하는 단계는,음파처리 환경에서 상기 산화철 나노입자를 글리시돌 용액에 용해시키는 단계;글리시돌 용액에 용해된 산화철 나노입자를 35~200℃에서 1~48시간 동안 교반하여 반응물을 생성하는 단계;상기 반응물의 온도를 20~30℃의 상온으로 낮추는 단계;상온의 반응물에 물을 첨가하고 투석하여 미반응물을 제거하는 단계; 및미반응물이 제거된 반응물을 동결건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 합성하는 단계는,아민기를 구비하는 산화철 나노입자에 하이드록실기를 도입하도록 상기 산화철 나노입자와 글리시돌 용액을 35~200℃에서 3~48시간 동안 교반하여 반응물을 생성하는 단계;상기 반응물에 에탄올을 첨가하고 원심분리하는 단계;상기 반응물의 온도를 20~30℃의 상온으로 낮추는 단계;상온의 반응물에 물을 첨가하고 투석하여 미반응물을 제거하는 단계; 및미반응물이 제거된 반응물을 동결건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 합성하는 단계는,아민기를 구비하는 산화철 나노입자에 하이드록실기를 도입하도록 상기 산화철 나노입자와 글리시돌 용액을 35~200℃에서 3~48시간 동안 교반하여 반응물을 생성하는 단계;상기 반응물에 에탄올을 첨가하고 원심분리하는 단계;하이드록실기가 도입된 산화철 나노입자를 1,4-다이옥세인에 용해시키는 단계;용해된 산화철 나노입자에 알루미늄 이소프로프산화물을 첨가하고 40~150℃의 온도에서 30~24시간 동안 교반하는 단계;교반하여 얻어진 수득물에서 1,4-다이옥세인을 제거하는 단계;1,4-다이옥세인이 제거된 수득물을 1,3-다이옥세인에 용해시키고 40~150℃의 온도에서 30분~24시간 동안 가열하는 단계;1,3-다이옥세인에 용해된 수득물을 용매 1,4-다이옥세인과 용질 글리시돌로 이루어진 용액에 투입하고, 상기 가열하는 단계와 동일한 온도범위 및 비활성기체 분위기에서 교반하여 반응시키는 단계;상기 용액에 투입된 수득물에 디에틸에테르를 투입하여 침전물을 얻는 단계; 및상기 침전물을 증류수에 녹인 후 미반응물을 제거하도록 테트라히드로푸란에 첨가하여 원심분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 도입하는 단계는,폴리글리세롤 고분자가 코팅된 산화철 나노입자를 디메틸포름아마이드에 분산시키는 단계;석신산무수물과 트리에틸아민을 첨가해 35~100℃에서 1~24시간에서 반응시키는 단계;반응 후 온도를 20~30℃의 상온으로 낮추고 투석하여 미반응물을 제거하는 단계; 및미반응물이 제거된 반응물을 동결 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유도용질용 자성 나노입자의 제조방법
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