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금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막 제거를 위한 무착화성 화학 제염제 및 이를 이용한 화학 제염방법

  • 기술번호 : KST2015147417
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 화학 제염제는 환원제, 환원성 금속이온 및 무기산을 포함하는 금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막 제거를 위한 화학 제염제에 관한 것으로, 본 발명의 화학 제염제는 적정한 온도에서 금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막을 효과적으로 용해하여 제거할 수 있으며, 방사성 오염 산화물을 화학 제염제에 접촉시키는 공정에 의해 제염을 수행할 수 있으므로 공정비용 및 공정시간 측면에서 경제적일 뿐만 아니라, 종래 옥살산 등과 같은 유기산 착화제를 사용하지 않고, 환원제를 주 제염제로 사용하기 때문에 제염 후 산화제를 사용하여 잔존하는 환원제를 쉽게 분해시켜 제거할 수 있어, 제염제의 용이한 파괴를 통한 2차 방사성 폐기물 발생을 최소화하고, 제염 용액에 잔존하는 방사성 핵종을 효과적으로 제거할 수 있다.
Int. CL G21F 9/28 (2006.01) G21F 9/06 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020130008013 (2013.01.24)
출원인 한국원자력연구원, 한국수력원자력 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0095266 (2014.08.01) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 취하
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020150053131;
심사청구여부/일자 Y (2013.01.24)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 한국수력원자력 주식회사 대한민국 경상북도 경주시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 원휘준 대한민국 대전 유성구
2 정종헌 대한민국 대전 서구
3 박상윤 대한민국 대전 유성구
4 최왕규 대한민국 대전 유성구
5 박정순 대한민국 충북 청주시 흥덕구
6 문제권 대한민국 대전 유성구
7 윤인호 대한민국 충북 청주시 흥덕구
8 최병선 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.01.24 취하 (Withdrawal) 1-1-2013-0070340-24
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.11.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2013-0103023-83
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.01.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0046756-87
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0272981-97
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.03.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0272980-41
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.07.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0472270-25
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2014.08.01 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0731153-09
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.08.01 수리 (Accepted) 1-1-2014-0731155-90
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.08.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0577948-56
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-1020334-13
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.10.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1020333-67
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2015.03.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0171983-78
15 [특허 등 절차 취하]취하(포기)서
[Withdrawal of Procedure such as Patent, etc.] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2015.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-0368388-39
16 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2015.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-0366986-86
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.03.18 수리 (Accepted) 4-1-2016-5034922-43
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번호 청구항
1 1
환원제, 환원성 금속이온 및 무기산을 포함하는 금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막 제거를 위한 무착화성 화학 제염제
2 2
제1항에 있어서, 상기 환원제는 NaBH4, H2S, N2H4 및 LiALH4로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 환원제인 것을 특징으로 하는 화학 제염제
3 3
제1항에 있어서, 상기 환원성 금속 이온은 Ag+, Ag2+, Mn2+, Mn3+, Co2+, Co3+, Cr2+, Cr3+, Cu+, Cu2+, Mn2+, Mn3+, Sn2+, Sn4+ Ti2+ 및 Ti3+로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 이온인 것을 특징으로 하는 화학 제염제
4 4
제1항에 있어서, 상기 무기산은 HBr, HF, HI, HNO3, H3PO4 및 H2SO4로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 무기산인 것을 특징으로 하는 화학 제염제
5 5
제1항에 있어서, 상기 금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막은 원자력발전소의 계통 내부에서 발생하는 것을 특징으로 하는 화학 제염제
6 6
제1항에 있어서, 상기 금속은 스테인리스강, 인코넬강 및 지르코늄 합금 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 화학 제염제
7 7
제1항에 있어서, 상기 환원제의 농도는 5×10-4 - 0
8 8
제1항에 있어서, 상기 환원성 금속 이온의 농도는 1×10-5 - 0
9 9
제1항에 있어서, 상기 무기산의 농도는 1×10-4 - 0
10 10
제1항에 있어서, 상기 화학 제염제의 pH는 1
11 11
환원제를 증류수에 용해시킨 용액을 제조하는 단계(단계 1);단계 1의 상기 용액에 무기산을 첨가하는 단계(단계 2); 및단계 2의 상기 무기산이 첨가된 용액에 환원성 금속 이온을 첨가하는 단계(단계 3)를 포함하는 제1항의 화학 제염제의 제조방법
12 12
제11항에 있어서, 상기 단계 2의 무기산은 화학 제염제의 pH를 1
13 13
제11항에 있어서, 단계 3의 상기 환원성 금속 이온은 금속염을 첨가하여 각 이온 또는 각 이온쌍의 형태로 첨가되는 것을 특징으로 하는 제1항의 화학 제염제의 제조방법
14 14
제1항의 화학 제염제를 표면에 방사능 오염 산화막이 고착된 금속에 접촉시키는 단계를 포함하는 화학 제염방법
15 15
제14항에 있어서, 상기 화학 제염방법은 제1항의 화학 제염제 내에 표면에 방사능 오염 산화막이 고착된 금속을 침지시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 화학 제염방법
16 16
제14항에 있어서, 상기 화학 제염방법은 제1항의 화학 제염제를 원자력발전소의 계통 또는 루프(loop) 내부로 통과시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 화학 제염방법
17 17
제14항에 있어서, 상기 화학 제염방법은 70 - 140 ℃의 온도 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 화학 제염방법
18 18
제14항에 있어서, 상기 화학 제염방법은 2 - 26 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 화학 제염방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP05651754 JP 일본 FAMILY
2 JP26142328 JP 일본 FAMILY
3 KR101601201 KR 대한민국 FAMILY
4 US20140205052 US 미국 FAMILY
5 US20190027263 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 FR3001328 FR 프랑스 DOCDBFAMILY
2 FR3001328 FR 프랑스 DOCDBFAMILY
3 JP2014142328 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP5651754 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US2014205052 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US2019027263 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국원자력연구원 원자력연구개발사업 원자력시설 고도제염기술 개발