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고속 기계적 밀링장치와 밀링조제를 이용한 세라믹 나노 분말 제조방법 및 이에 의해 제조된 세라믹 나노 분말

  • 기술번호 : KST2015147532
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고속 기계적 밀링장치와 밀링조제를 이용한 세라믹 나노 분말 제조방법 및 이에 의해 제조된 세라믹 나노 분말에 관한 것으로 더욱 구체적으로는 산화물, 질화물, 탄화물 등의 세라믹 분말을 고속 기계적 밀링장치와 밀링조제를 이용하여 균일하고 미세한 세라믹 나노 분말의 제조방법과 이에 의해 제조된 세라믹 나노 분말에 대한 것이다. 본 발명에 의하면 상용화되는 고가의 세라믹 나노 분말을 저가의 마이크로급의 원료분말로부터 단시간에 대량으로 제공할 수 있으므로, 시간적 및 경제적으로 유용하다. 예를 들면, 본 발명에 따른 세라믹 나노 분말의 제조방법은 종래의 물리적 합성법과 화학적 합성법을 대신하여 균일하고 미세한 세라믹 나노 분말의 제조가 가능할 뿐만 아니라, 단시간에 세라믹 나노 분말의 미세화가 가능하여 장시간의 고에너지 볼밀과정에서 발생할 수 있는 분말용기 또는 강구로부터 불순물의 혼입을 최소화할 수 있다.
Int. CL C04B 35/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01) B02C 17/18 (2006.01) B02C 17/10 (2006.01)
CPC B02C 17/10(2013.01) B02C 17/10(2013.01) B02C 17/10(2013.01)
출원번호/일자 1020110106458 (2011.10.18)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0042270 (2013.04.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 취하
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.10.18)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박진주 대한민국 대전광역시 유성구
2 이창규 대한민국 대전광역시 유성구
3 이민구 대한민국 대전광역시 유성구
4 홍성모 대한민국 대전광역시 유성구
5 엄영랑 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.10.18 취하 (Withdrawal) 1-1-2011-0813659-86
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2012-5134067-95
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0013560-45
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.03.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0194401-32
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.05.21 수리 (Accepted) 1-1-2013-0446766-23
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.05.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0488354-00
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-0488352-19
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0739497-87
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-1184834-96
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.12.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1184831-59
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.05.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0349085-22
13 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2014.06.23 수리 (Accepted) 7-1-2014-0023710-53
14 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2014.07.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0683419-88
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.07.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0683418-32
16 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.08.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0541758-01
17 [특허 등 절차 취하]취하(포기)서
[Withdrawal of Procedure such as Patent, etc.] Request for Withdrawal (Abandonment)
2014.09.05 수리 (Accepted) 1-1-2014-0852177-43
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
접촉회전식 고속 밀링장치 내 분말용기에 세라믹 분말과 밀링조제를 첨가하고 진공 또는 아르곤 분위기하에서 상기 밀링장치를 고속회전시키는 단계를 포함하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 접촉회전식 고속 밀링장치는 밀링장치 챔버 중심축을 포함하는 가이드에 구비된 반원형의 홈에 분말용기가 구비되고, 상기 분말용기는 상기 챔버 내벽에 접촉되어 있어 상기 가이드가 회전하는 반대방향으로 고속 회전하면서 내부의 강구가 세라믹 분말을 분쇄하는 것을 특징으로 하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서, 가이드의 회전속도와 분말용기의 회전속도는 각각 700-850 rpm 및 1700-2100 rpm 인 것을 특징으로 하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 밀링장치는 고속 회전하는 동안 냉각수를 챔버 내부의 분말용기에 직접 분사시켜 볼밀과정시 발생하는 온도 증가를 최소화하는 것을 특징으로 하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 세라믹 분말은 이트륨(Ⅲ)옥사이드(Y2O3), 보론옥사이드(B2O3) 및 가돌리늄옥사이드(Gd2O3)를 포함하는 산화물, 티타늄니트라이드(TiN), 보론니트라이드(BN)를 포함하는 질화물 또는 실리콘카바이드(SiC) 및 보론카바이드(B4C)를 포함하는 탄화물인 것을 특징으로 하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 밀링조제는 톨루엔, 스테아릭산, 에틸렌글리콜 및 사이클로헥산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
7 7
제 1항에 있어서, 상기 밀링조제는 마이크로 크기의 세라믹 분말 입자를 분쇄하는 과정에서 급격한 온도 상승을 방지하는 것을 특징으로 하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
8 8
제 1항에 있어서, 세라믹 나노 분말은 초기 수십 - 수백 마이크로 크기에서 수십 나노 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
9 9
제 1항에 있어서, 세라믹 분말의 나노화는 1시간 이내에 완료되는 것을 특징으로 하는 세라믹 나노 분말의 제조방법
10 10
제 1항의 제조방법으로 제조되는 세라믹 나노 분말
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국원자력연구원 출연금사업 (기관고유사업) 원전구조소재 신공정연구