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아스팔트 및 골재를 포함하는 유기 용제에 불용성인 방사성 물질로 오염된 아스콘을 유기용제에 용해시켜 아스팔트 성분을 분리하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 분리된 아스팔트 성분을 회수하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 아스팔트가 회수된 후, 잔류골재의 방사성 물질을 산성용액에 용해 및 침전시켜 회수하는 단계(단계 3)를 포함하며,상기 단계 3의 방사성 물질 회수는 상기 단계 1에서 용제에 용해되지 않고 잔류하는 골재를 산성 용액에 침지시켜 방사성 물질을 용해하는 단계(단계 a);상기 단계 a에서 산처리된 골재를 분리하는 단계(단계 b); 및상기 단계 a에서 방사성 물질이 용해된 산성 용액으로부터 방사성 물질을 소디움 테트라페닐보레이트(sodium tetraphenylborate, STPB)를 사용하여 침전시키는 단계(단계 c)를 포함하는 공정을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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아스팔트, 굵은골재 및 잔골재를 포함하는 유기 용제에 불용성인 방사성 물질로 오염된 아스콘을 유기용제에 용해시켜 아스팔트 성분을 분리하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 분리된 아스팔트 성분을 회수하는 단계(단계 2);상기 단계 1에서 유기용제에 용해되지 않은 굵은골재 및 잔골재를 분류하는 단계(단계 3); 및상기 단계 3에서 분류된 잔골재의 방사성 물질을 산성용액에 용해 및 침전시켜 회수하는 단계(단계 4)를 포함하며,상기 단계 4의 방사성 물질 회수는 상기 단계 3에서 분류된 잔골재를 산성 용액에 침지시켜 방사성 물질을 용해하는 단계(단계 a);상기 단계 a에서 산처리된 잔골재를 분리하는 단계(단계 b); 및상기 단계 a에서 방사성 물질이 용해된 산성 용액으로부터 방사성 물질을 소디움 테트라페닐보레이트(sodium tetraphenylborate, STPB)를 사용하여 침전시키는 단계(단계 c)를 포함하는 공정을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 1의 방사성 물질은 Cs-137인 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 1의 용제는 벤젠(Benzene), 톨루엔(Toluene), 자일렌(Xylene), 사염화탄소(CCl4) 및 메틸렌 클로라이드(methylene chloride)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 2의 아스팔트 회수는 용제를 휘발시켜 수행되는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제2항에 있어서, 상기 단계 3의 분류는 10 내지 50 메쉬(mesh) 크기의 그물망 구조물을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 a의 산성 용액은 질산, 염산 및 황산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 방사성 물질을 침전시켜 회수한 후, 잔류 산성용액은 방사성 물질 회수에 재사용되는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 3에서 방사성 물질이 회수된 잔골재를 산처리 또는 전기적 제염 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제2항에 있어서, 상기 단계 4에서 방사성 물질이 회수된 잔골재를 산처리 또는 전기적 제염 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 산처리는 70 내지 100 ℃의 온도인 질산, 염산 및 황산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 산성 용액을 이용하여 잔골재로부터 방사성 물질을 더욱 용해시킨 후, 소디움 테트라페닐보레이트(sodium tetraphenylborate, STPB)를 사용하여 방사성 물질을 침전시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 전기적 제염은 동전기적 제염(electrokinetic decontamination)인 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염방법
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아스팔트, 굵은골재 및 잔골재를 포함하는 유기 용제에 불용성인 방사성 물질로 오염된 아스콘을 유기용제에 용해시켜 아스팔트 성분을 분리하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 분리된 아스팔트 성분을 회수하는 단계(단계 2);상기 단계 1에서 유기용제에 용해되지 않은 굵은골재 및 잔골재를 분류하는 단계(단계 3); 및상기 단계 3에서 분류된 잔골재의 방사성 물질을 산성용액에 용해 및 침전시켜 회수하는 단계(단계 4)를 포함하며,상기 단계 4의 방사성 물질 회수는 상기 단계 3에서 분류된 잔골재를 산성 용액에 침지시켜 방사성 물질을 용해하는 단계(단계 a);상기 단계 a에서 산처리된 잔골재를 분리하는 단계(단계 b); 및상기 단계 a에서 방사성 물질이 용해된 산성 용액으로부터 방사성 물질을 소디움 테트라페닐보레이트(sodium tetraphenylborate, STPB)를 사용하여 침전시키는 단계(단계 c)를 포함하는 공정을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 방사성 물질로 오염된 아스콘의 제염 처리량을 감소시키는 방법
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