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방사성 제염을 위한 환원제 역할을 하는 무기산 5
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제1항에 있어서,상기 겔 화학제염제는 상온에서 상의 분리가 없는 겔 형태로 존재하며, 교반할 경우 유동성 졸로 변화하는 것을 특징으로 하는 겔 화학제염제
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제1항에 있어서,상기 무기산은 염산, 인산, 황산 및 질산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 겔 화학제염제
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제1항에 있어서,상기 실리카류는 건식 실리카, 습식 실리카 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 겔 화학제염제
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제1항에 있어서,상기 방사성 오염은 비고착성 오염, 고착성 오염, 침투성 오염 또는 이들의 혼합성 오염인 것을 특징으로 하는 겔 화학제염제
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방사성 제염을 위한 환원제 역할을 하는 무기산, 점성조제의 분산을 위한 에탄올, 메탄올, 부탄올 및 헥산올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 분산제를 포함하는 수용액에 실리카류를 분산시킨 분산용액을 제조하는 단계(단계 1); 및점성조제로써 트리프로필렌글리콜도데실에테르(TPGDDE) 또는 트리프로필렌글리콜부틸에테르(TPGBE)를 첨가하는 단계(단계 2)를 포함하는 방사성 오염 제거용 환원제 함유 겔 화학제염제의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 무기산은 염산, 인산, 황산 및 질산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 겔 화학제염제의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 실리카류는 건식 실리카, 습식 실리카 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 겔 화학제염제의 제조방법
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제1항에 따른 겔 화학제염제를 방사성 오염된 시설물에 도포하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 도포된 겔 화학제염제를 건조하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 건조된 겔 화학제염제를 제거하는 단계(단계 3)를 포함하는 방사성 물질로 오염된 시설물의 제염방법
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제12항에 있어서,상기 단계 2의 건조 조건은 15-30 ℃에서 상대습도 20-70%를 유지하며, 5-24 시간 동안 건조하는 것을 특징으로 하는 제염방법
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