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펄스와전류를 공급하는 전원 공급부;상기 펄스와전류를 공급받아 자기장을 발생시켜 외부로부터 제공되는 피검체 시편의 이면 결함에 따른 결함 신호를 발생시키는 탐촉부;상기 결함 신호를 증폭 및 필터링하는 신호 증폭 필터링부; 및상기 증폭 및 필터링한 결함 신호를 신호 처리하여 상기 피검체 시편의 이면 결함의 위치 및 크기를 산출하는 신호 처리부;를 포함하되,상기 탐촉부는 상기 펄스와전류를 공급받아 펄스 자기장을 발생시키는 자기장 발생부; 및 상기 펄스 자기장에 반응하는 상기 피검체 시편의 이면 결함에 따른 유도 자속의 변화를 검출하여 결함신호를 발생시키는 자기 센서부를 포함하고,상기 자기장 발생부는 상기 피검체 시편의 외부에 위치되는 이중 코아 형상의 자화요크; 및 상기 자화 요크의 외부에 권취되되, 상기 전원 공급부로부터 펄스와전류를 공급받아 펄스 자기장을 발생시키는 자화코일을 포함하며,상기 피검체 시편은 비자성체로된 이종용접부 재료인 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 장치
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제1항에 있어서상기 자기장 발생부는,상기 피검체 시편의 이면 결함이 형성된 부위의 반대쪽 면에 위치하여 펄스 자기장을 발생시키는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 장치
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제 3항에 있어서,상기 자화 요크는 전기강판(SiFe) 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 장치
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제 1항에 있어서,상기 자기 센서부는상기 자화 요크의 하방 중간부에 위치하는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 장치
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제 1항에 있어서,상기 자기 센서부는 홀자기 센서 또는 GMR(Giant Magnetic Resistance) 센서로 이루어지는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 장치
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제 1항에 있어서,상기 자기 센서부는 전압 레벨에 따라 상기 피검체 시편의 내부 결함의 위치 및 크기를 산출할 수 있도록 유도 자속의 변화에 의해 변경된 전압을 측정하는 전압 측정 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 장치
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제 1항에 있어서,상기 피검체 시편 및 상기 피검체 시편 상에 상기 탐촉부를 이동시키는 스캐너를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 장치
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제 1항에 있어서,상기 신호 처리부는,상기 증폭 및 필터링한 결함 신호를 시간-주파수 분석법 또는 퓨리에 분석법에 의해 처리하여 상기 피검체 시편의 이면 결함의 위치 및 크기를 산출하는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 장치
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비자성체로된 이종용접부 재료로 이루어진 피검체 시편에 상기 피검체 시편의 외부에 위치되는 이중코아 형상의 자화요크 외부에 권취된 자화코일을 포함하는 자기장 발생부에 펄스와전류를 공급하여 펄스 자기장을 발생시키는 펄스 자기장 발생 단계;상기 펄스 자기장에 의해 상기 피검체 시편에 유도 자속을 발생시키는 유도 자속 발생 단계; 상기 피검체 시편의 내부 결함에 따른 유도 자속의 변화를 검출하여 결함 신호를 발생시키는 결함 신호 발생 단계;상기 결함 신호를 수신한 후 증폭 및 필터링하는 결함 신호 증폭 필터링 단계; 및상기 증폭 및 필터링한 결함 신호를 신호 처리하여 상기 피검체 시편의 이면 결함의 위치 및 크기를 산출하는 이면 결함 산출 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 방법
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제 12항에 있어서,상기 결함 신호 발생 단계는,상기 피검체 시편에 발생된 유도 자속을 자기 센서부로 탐지하는 유도 자속 탐지 공정; 및상기 피검체 시편의 이면 결함에 따른 유도 자속의 변화를 검출하여 결함 신호를 발생시키는 결함 신호 발생 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스와전류를 이용한 시편의 이면 결함 탐지 방법
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